浅析LCD制造工艺中使用清洗技术

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1、2oo8~第4期显示器件技术浅析LCD制造工艺中使用的清洗技术彩虹股份张兵摘要：在液晶显示器的生产过程中要多次涉及到清洗工艺，如所使用的玻璃基板在受入前必须清洗干净，在溅镀ITO导电膜之前还需要清洗干净，由于制备工艺要求达到1m，所以除了玻璃基板、镀膜玻璃必须清洗之外，在涂敷光刻胶等之前都要对玻璃基板进行清洗，将1m以上的颗粒以及所有的无机、有机污染物清洗干净，保证工艺达到所需要的精度要求。本文就目前的主流清洗方法进行系统阐述，从原理上为清洗工艺提供理论知识。关键词：玻璃基板超声波接触角纯水清洗剂璃基板上留有较低的离子残留。为了取得良好的玻璃基板上的污染物，主要来自制造工艺

2、过清洗效果通常在用DI水清洗时配合使用一些物程．以及玻璃基板的搬运、包装、运输、储存过程。理清洗手段。使用的物理清洗方法有下列几种。主要的污染物有尘埃粒子、纤维纸屑、矿物油和油1．1刷洗脂等油垢、氧化硅等无机颗粒、制备加工过程的残刷洗是利用刷子与玻璃基板之间的摩擦作留物、水迹、手指印等。清除玻璃基板的目的，一方用来去除污垢的。用刷洗的方法很容易把玻璃基面是要去除污染物避免对性能造成不良的影响．板上难以去除的污垢顽渍去除，对于在玻璃基板另一方面也可以起到改善玻璃基板表面性能。增上吸附得很紧的粒径在5p．m以上的无机物颗粒加其与加工过程中使用的各种材料之间的亲和力。使涂在玻璃基

3、板上的各种加工材料与玻璃基高密度Brush板有良好的接合性从而保证工艺的制作精度，有利于加工过程的顺利完成。由于玻璃基板的尺寸朝越来越大的方向发展，为了清洗和运送的方便，清洗玻璃通常采用水平方向排列的传送带式流水线在线清洗方式。根据清洗方式可分为湿法清洗和干法清洗两大类。其中湿法工艺清洗效果好使用较普遍，而干法清洗只在一些特殊场合使用，或作为湿法清洗工艺的补充。使用湿法清洗时工艺过程中包括清洗、漂洗、干燥三个具体工序。1、湿法清洗工艺一在清洗工序中，必要时可使用去除玻璃上污向。二．融■‘垢效果好的水基清洗剂，它一般是含有碱性、表面活性剂、清洗剂等组成的，但在玻璃基板上的油性

4、污垢不多。主要是微小固体颗粒污垢时通常用高也有很好的去除效果。纯度的去离子水(DI水)做清洗剂，因为这样既可以保证清洗质量，又可以保证在完成清洗后在玻一12一浅析LCD制造工艺中使用铀9的挑9清9鼢8洗砩8技8术辛8s8昌7暑772008年第4期颗粒玉除率一约液温度94％94％簪93％篮93％娶92％92％91％354045药液温度(℃)5药液温度与颗粒去除率关系图2刷洗设备部分的滚刷一V艟鑫6高压喷淋单元机械结构图l0．50-0．5刷于压入最(ilm)一般用柔软、耐磨的尼龙材料作刷毛材料，每3刷子压入量与颗粒去除率的关系根刷毛的直径一般在0．1mm以下。刷洗的方法有两种：

5、一种是横向滚刷。即圆滚的轴线是与玻璃基板所在的平面平行的，另一种是纵向滚刷，即圆滚颗粒去除率一传送速度的轴线与玻璃基板所在的平面垂直。使用刷洗应96％f注意的是：必须保持刷子经常清洁。防止由于刷子94％卜上粘染的污垢把玻璃基板弄脏而造成再污染。一92％!一般刷子的使用寿命不长。使用时间长了还会发生掉毛现象，因此需要定期更换。特别注意的是。当玻璃基板的涂层材质比较松软时，刷洗时容易造成膜层被划伤。因此这时不～一一L一一——一一⋯．．．～一————～2．22．62．9宜采用刷洗的方法。传送速度(m／min)如图3所示如果刷子不与基板接触，则压入量为零，或为正数，但刷子的震荡也可

6、以去除一部如图1所示，随着基板尺寸越大，基板在运载分颗粒。随着压人量的的加大，压入量为负值，颗过程中易弯曲，在刷子的受力下会导致破裂，为此粒的去除率会提高，但是，压人量太大，可能会破基板两面对称配列二对刷子使玻璃受力均匀来进坏基板膜面。行清洗。颗粒去除率与基板传送速度有关，当基板传2008年第4期显示器件技术一13一图7扁平扇形状清洗面的喷嘴劣—图8在线清洗装置毒者水图9浸泡式超声波清洗装置尊t面OOO送速度超过2~min。则颗粒去除率急速下降。玻璃耀扳药液温度与颗粒去除率之间的关系见图5，由此图可见，药液温度越高，颗粒去除率越高。一图l0流水式高频超声波清洗装置般药液温度

7、控制在40—45℃之间比较合适。1．2高压喷淋中使液体发生压缩和减压的高频交替变化。并在利用高压泵把清洗用水加压到10—30公斤的负压时在液体中产生大量微小的真空洞穴(空高压力，再通过喷嘴把高压低流速的水转化成低穴)，在正压阶段这些空穴被绝热压缩，并最终被压高流速的清洗水喷射到玻璃基板的表面进行清压破．在空穴破裂的瞬间会放出巨大的能量对空洗。穴周围形成冲击。能把物体表面的污垢薄膜击破为了扩大清洗面常使用能形成扁平扇形状清而达到去污的效果。在频率为28—100KHz(较低)洗面的喷嘴。时，超声波的这种空化作用是最主要