LCD 清洗技术简介

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1、LCD清洗技术简介汉高股份有限公司电子产品的发展方向TFT-LCDLCD的结构透明电极玻璃基板导向膜液晶光源集成电路反射片反射片ColorFilterBlackMatrixArrayBoardITO玻璃制造流程和玻璃清洗剂CeO研磨研磨后清洗涂膜前清洗母板ITO涂膜切割后清洗切割P3silironAPP3silironHSP3silironLP3silironEP3silironTKP3silironTKAP3silironSP3silironSA最新产品：P3silironAP去除研磨剂P3silironSA去除颗粒，纸屑，玻璃屑，油污彩色滤光片的制造过程玻璃基板黑色矩阵彩色层保护层IT

2、O导电膜光阻涂布BM基板清洗ITO制程去除边缘显影后段烘烤前段预烤紫外线曝光重复三次(R,G,B)P3poleveHPP3disperseH印框胶贴偏振片检测下一道工序去除残留液晶注射液晶清洗面板组合Arrayboard基板玻璃清洗去除研磨和切割残留物清洗金属铬BM制程刻蚀Arrayboard光刻制程ColorFilter曝光去除边缘曝光检测检测ColorFilter基板玻璃去除边缘，显影去除光阻显影光阻BM制程去除光阻TFT-LCD制造流程LCD基板玻璃表面的污染物污染物分类污染物来源清洗方法有机污染物包装纸中的有机物、指印、油脂等玻璃清洗剂清洗碱液清洗UV光照射(O3)清洗无机污染物灰

3、尘、玻璃屑或研磨剂等微粒子(particle)超音波清洗喷淋加毛刷清洗配合溢流与过滤基板预清洗一.目的：对PI投入前之基板做清洗工作，确保基板之清洁状态。二.原理：利用洗剂、毛刷、超音波、IR、UV等装置，将基板上的微粒及油污清除。LCD基板清洗P3silironHS(2槽)1-5%,45-60℃,5-10min.浸渍＋超声波P3silironLS(2槽)1-3%,45-60℃,5-10min.喷淋＋刷洗去离子水(4-5槽)RT-60℃,5-10min.浸渍＋超声波去离子水(4-5槽)RT-60℃,5-10min.喷淋＋刷洗清洗漂洗PI前强碱清洗的特点强碱与玻璃有一定的亲合力，容易在玻璃表

4、面形成碱性覆盖膜，不易被漂洗除去。为解决碱液吸附残留表面问题，需采取增加冲洗次数的方法改善，一般清洗设备会设计更多的清洗和漂洗槽，但这也增加了设备费用成本。P3siliron系列玻璃清洗剂的特点表面活性剂和助洗剂的协同作用，显示出卓越的清洗性能采用了漂洗助剂，残留物极易漂洗干净。助洗剂浓度:2.0%表面活性剂浓度:0.1%清洗温度:60°C处理时间(min)清洗能力(%)水表面活性剂助洗剂助洗剂+表面活性剂100013020406080510Lit.from:Oberfläche-Surface1984,Rossmann:ReinigungstarrerOberflächen助洗剂/表面活

5、性剂的协同作用水洗水123脱脂水洗举例:m=10ml/m2表面Co=25g/lCx=0.01g/l稀释比例=1:2500消耗量:1个水洗槽25.00l/m2表面2个水洗槽0.50l/m2表面3个水洗槽0.14l/m2表面水洗水计算方程式(简化式)L=nCoCxL=水洗水的消耗(l/m2表面)m=带出量(l/m2表面)n=水洗区的水洗槽数量Co=最后脱脂槽的浓度(g/l)Cx=最后水洗槽的浓度(g/l)mLCD基板玻璃清洗条件控制项目清洗剂浓度测定:每天进行一次电导率法酸碱滴定－总碱定期添加约5g/m2LCD基板玻璃清洗条件测试方法水膜浸润度扫描式电子显微镜(SEM)X光能量分散光谱仪(ED

6、S)颗粒残留以X光能量分散光谱仪(EnergyDispersiveSpectrometer)分析微粒子污染物，确认该微粒子为玻璃屑泄漏液晶清洗一.目的：对封口、裂片、磨边后之液晶片作清洗工作，主要目的是去除狭隘中的残留液晶。二.原理：利用液晶清洗剂、超音波等装置，配合溢流(overflow)与过滤(filtration)将狭隘中的残留液晶以及表面的微粒清除干净。由于STN-LCD工艺是先将液晶盒裁切(裂片)之后才进行清洗，可以预知液晶盒的玻璃面板边缘与表面，除了沾附液晶分子，亦将附着许多玻璃屑(微粒子)，所以清洗槽的溢流与过滤功能就显得非常重要。LCD清洗条件P3kaltfin20(2槽)

7、45-60℃,5-10min.超声波＋搅拌P3kaltfin20+P3EtarapES(2槽)45-60℃,5-10min.超声波＋搅拌P3allpass7000/7750(2槽)45-60℃,5-10min.超声波＋搅拌IPA(3槽)RT-45℃,15-20min.超声波＋搅拌PureWater(4槽或以上)40-60℃,15-20min.超声波＋搅拌PureWater(4槽或以上)40-60℃,15-20min.超声