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时间:2020-06-20
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1、1.简述PN结的形成过程,并说明PN结的电学特性。答PN结采用不同的掺百杂工艺,将P型半导体与N型半导体制作在同一块硅片上,在它们的交界面就形成空间电荷区称PN结。PN结具有单向导电性。PN结(PNjunction)一块单晶半导体中,一部分掺有受主杂质是度P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体时,P型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区称。PN结有同质结和异质结两种。用同一种半导体材料制成的PN结叫同质结,由禁带宽度不同的两种半导体材料制成的PN结叫异质结。制造PN结的方法有合金法、扩散法、离问子注入法和外延生长法等。制造异质结通常采用外延
2、生长法。在P型半导体中有答许多带正电荷的空穴和带负电荷的电离杂质。在电场的作用下,空穴是可以移动的,而电离杂质(离子)是固定不动的。N型半导体中有许多可动的负电子和固定的正离子。当P型和N型半导体接触时,在界面附近空穴从P型半导体向N型半导体扩回散,电子从N型半导体向P型半导体扩散。空穴和电子相遇而复合,载流子消失。因此在界面附近的结区中有一段距离缺少载流子,却有分布在空间的带答电的固定离子,称为空间电荷区 。2.简述双极型晶体管的三种工作状态。答:1、工作状态(或工作模式)有放大状态、截止状态、饱和状态和反向放大状态四种.放大状态就是输出电流与输
3、入电流或者与输入电压成正比的一种工作状态。在输出伏安特性曲线上,放大状态所处的范围对于BJT和FET有所不同。2、饱和状态就是晶体管的一种低电压、大电流工作状态(即开态).对于BJT(双极型晶体管)和对于FET(场效应晶体管),饱和状态的含义大不相同,要特别注意区分开来.饱和状态就是晶体管的一种低电压、大电流工作状态(即开态).对于BJT(双极型晶体管)和对于FET(场效应晶体管),饱和状态的含义大不相同,要特别注意区分开来.3、截止状态就是电流很小、基本上不导通的一种工作状态(工作模式).这种状态,不管是BJT(双极型晶体管),还是FET(场效应
4、晶体管),都是一致的;在输出伏安特性曲线上,其范围都是处于最下面的小区域(紧靠横轴——电压轴)1.简述场效应晶体管的工作原理。答:场效应管三个引脚分为:g极(栅极)、d极(漏极)、s极(源极)。 场效应管与三极管的工作原理有很大的不同。 场效应管时由加在输入端(栅极)的电压来控制输出端(漏极)的电流,也就是说场效应管是由栅极输入电压控制的压控电流源。2.把十进制数0.625转换成二进制数。答:0.625=(0.101)2。3.何为卡诺图?请写出用卡诺图化简逻辑函数的一般步骤。答:卡诺图是逻辑函数的一种图形表示。一个逻辑函数的卡诺图就是将此函数的最小
5、项表达式中的各最小项相应地填入一个方格图内,此方格图称为卡诺图。(1)一般步骤:第一步:作出函数的卡诺图。第二步:在卡诺图上圈出函数的全部质蕴涵项。按照卡诺图上最小项的合并规律,对函数F卡诺图中的1方格画卡诺圈。为了圈出全部质蕴涵项,画卡诺圈时在满足合并规律的前提下应尽可能大,若卡诺圈不可能被更大的卡诺圈包围,则对应的“与”项为质蕴涵项。第三步:从全部质蕴涵项中找出所有必要质蕴涵项。在卡诺图上只被一个卡诺圈包围的最小项被称为必要最小项,包含必要最小项的质蕴涵项即必要质蕴涵项。为了保证所得结果无一遗漏地覆盖函数的所有最小项,函数表达式中必须包含所有必
6、要质蕴涵项。第四步:求出函数的最简质蕴涵项集。若函数的所有必要质蕴涵项尚不能覆盖卡诺图上的所有1方格,则从剩余质蕴涵项中找出最简的所需质蕴涵项,使它和必要质蕴涵项一起构成函数的最小覆盖。归纳起来,卡诺图化简的原则是:☆在覆盖函数中的所有最小项的前提下,卡诺圈的个数达到最少。☆在满足合并规律的前提下卡诺圈应尽可能大。☆根据合并的需要,每个最小项可以被多个卡诺圈包围。3.求函数的最简“或-与”表达式当需要求一个函数的最简“或-与”表达式时,可采用“两次取反法”。具体如下:☆先求出函数F的反函数F的最简“与-或”表达(合并卡诺图上的0方格);☆然后对F的
7、最简“与-或”表达式取反,从而得到函数F的最简“或-与”表达式。卡诺图化简逻辑函数具有方便、直观、容易掌握等优点。但依然带有试凑性。尤其当变量个数大于6时,画图以及对图形的识别都变得相当复杂。1.说明TTL逻辑门电路的电源电压是多少?TTL高电平和低电平的范围分别是多少?答:TTL门电路中,电源电压VCC低电平0V,高电平+5V。输入端悬空属于多余输入端的处理范畴,悬空相当于接高电平(+5V),但悬空时对地呈现的阻抗很高,容易受到外界干扰。TTL集成电路主要有54/74系列标准TTL、高速型TTL(H-TTL)、低功耗型TTL(L-TTL)、肖特基
8、型TTL(S-TTL)、低功耗肖特基型TTL(LS-TTL)五个系列。标准TTL输入高电平最小e68a84e8a2ade7
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