姜黄素对全脑缺血再灌损伤后大鼠海马区神经元细胞凋亡的影响.pdf

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1、核聚变与等离中国核科学技术进展报告!第二卷"子体物理分卷!"#$"%&&'%(#")#*+,-*./012%."31-%*1%45%1,*#2#$6!7#289"9:;;年;:月铜基表面化学气相沉积制备钨涂层的组织与性能练友运;!刘!翔;!许增裕;!宋久鹏9!于!洋9!庄志刚A!;8核工业西南物理研究院#四川成都<;::=;$98厦门虹鹭钨钼工业有限公司#福建厦门A<;:9;$A8厦门钨业集团国家钨材料工程技术研究中心#福建厦门A<;:9<"摘要!用化学气相沉积法在铜基体表面沉积了钨涂层#利用原子吸收光

2、谱仪%金相显微镜%扫描电镜及其能谱仪对钨涂层的成分%结构进行了分析#并利用显微硬度计测试了其显微硬度#利用拉伸方法测量了钨涂层与基体之间的结合力&研究结果表明采用化学气相沉积法能在铜基体上制备致密均匀的高纯钨涂层#其纯度大于EE8EHEG#钨涂层具有典型的柱状晶体结构#同时钨涂层与铜基体之间具有良好的结合性能&关键词!面对等离子体材料$钨涂层$化学气相沉积钨由于高熔点%优良的导热性能%低溅射产额和高自溅射阀值%以及低蒸气压和低的氚滞留性能);*等优点被广泛地认为是最有希望的核聚变装置面对等离子体材料&但

3、是钨密度非常脆难以加工#通过涂层技术在热沉材料上制备钨可以克服这些缺点&化学气相沉积!+7C"钨涂层是国际热核聚变实验堆!c5L'"中面对等离子体材料!![P"的候选材料之一#其纯度可到达EE8EEG以上#涂层的致)9*密度%导热系数和强度都与烧结纯钨相当$化学气相沉积还可以在弯曲的基体表面上沉积钨涂层&同时#文献)AI=*的研究发现循环热负荷条件下+7C钨涂层具有优良的耐热疲劳性能$/.R.K0".等)@*人预先将样品加热到;:::J#利用电子束装置对+7C钨%粉末冶金烧结钨和单晶钨进行了热冲击)=*

4、试验#结果表明+7C钨抗热冲击能力最好#其裂纹主要产生于柱状晶的生长方向&但是#化学气相沉积制备的钨涂层也存在一些缺点#诸如沉积速度慢%沉积面积小#而制备成本以及制备过程中的反应产物对环境的污染等&为了探索提高化学气相沉积速率对钨涂层性能的影响#本文在铜基体上制备了钨涂层并对制备工艺和相关性能等进行了分析&!!试验材料及方法本试验采用化学气相沉积的方法制备钨涂层#通过还原反应过程'a[#从而<^AS9Ca^

5、采用纯铜为基材#<9其厚度为@KK#直径为F:KK&涂层制备试验在加热炉装置Q和Y中进行#其中装置Q的加热区尺寸较大&试验之前#在@::"F@:J范围内对加热座进行=点校温#保证加热座上的温度均匀性&沉积试验中通过控制沉积温度来控制涂层的沉积速率#试验设计参数如表;所示&表!!铜基材上进行*Z(钨涂层沉积试验的参数试验编号试验装置沉积温度+J沉积时间+K-*试样;装置Q<@:;H:试样9装置Q@<:A<:试样A装置Q<::9=:试样=装置Y<@:9=:!!通过光谱仪%定氧仪%碳硫分析仪等设备对钨涂层的化

6、学成分进行检测$通过金相显微镜和电子作者简介!练友运!;EH;("#男#四川人#硕士#助理研究员#现主要从事聚变堆材料研究工作基金项目!核能开发项目S<<:A;::%c5L'计划专项课题资助项目9:;:?Y;:E::A;<9扫描显微镜!3LP"观察涂层的微观结构以及与界面的结合状况$对涂层表面进行磨削和抛光#通过显微硬度计测量涂层显微硬度$通过拉伸法测量涂层与基体的结合力&"!结果与讨论"#!!沉积参数对涂层表面质量的影响通过化学气相沉积试验得到了一系列的钨涂层试样#如图;所示&对不同工艺参数下沉积钨涂

7、层的质量%厚度%沉积速率%材料利用率及表面状况等进行了测量#其结果如表9所示&通过与表;中涂层制备工艺参数的比较#可以发现对于同样尺寸的样品#提高沉积温度#可以显著增加沉积速度$同时#提高沉积速率则会使涂层表面粗化&在@<:J下沉积的试样9表面质量平整#颗粒均匀细小$在<::J下沉积的试样A样品表面良好#但是表面不平$在<@:J下沉积试样;和试样=的表面比较粗糙#有大的凸起存在于表面&因此#为了在沉积后直接得到表面良好的制品#较为合适的沉积温度区间在@<:"<::J&图;!不同工艺参数条件下沉积的钨涂层

8、样品表"!采用表!所示工艺参数在铜基材上进行*Z(钨涂层沉积的结果样品编号沉积净重+$平均厚度+KK沉积速率+!KK+,"表面状况试样;H;89;8:@:8A@表面有部分细小颗粒试样9;@=8=;8F9:89E表面情况良好试样A;<98H;8%[%等通过+QQPO9::;系列原子吸收光谱仪进行测量#Q