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《从还原副产物中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅的新工艺》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、2013年l2月第6期从还原副产物中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅的新工艺——杨永亮姜利霞严大洲等·53·夺’争’÷‘孛。牛。夺’夺’.3新能源;‘.夺.寺.÷.争.+.々.夺.从还原副产物中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅的新工艺杨永亮姜利霞严大洲肖荣晖(中国恩菲工程技术有限公司,北京100038)[摘要]针对二氯二氢硅对多晶硅生长过程中的促进作用,介绍了一种从还原副产物中提纯二氯二氢硅和三氯氢硅混合物的新工艺。对比了新工艺和常规工艺的技术指标,通过生产试验和分析,验证了新工艺具有简化工艺、降低投资和节能降耗的先进性。[关键词]多晶硅;还原副产物;二氯二氢硅;三氯氢硅[中图分类号]
2、TN304[文献标识码]A[文章编号]1008—5122(2013)06—0053—04ANewSeparationTechnologyofDichIorosilaneandTrichlorosilanefromReductionofBy-productsYANGYong—liang,JIANGLi·xia,YANDa—zhou,XIA0Rong—huiAbstract:BasedonadvancementofdichlorosilaneinCVDprocess,Anewseparationtechnologyispro—posed,whichcanobtainthem
3、ixtureofdiehlorosilaneandtrichlorosilanefromthedistillationofreduction0fby—products.Thecomparedtechnologicalparameterswascomparedwithconventionalprocessaccord—ingtotheproducttestandanalysis.Simplifyingtechnology,reducinginvestmentandenergyconsumptionhavebeen,whichshowsthatthenewseparatio
4、nprocesshaveagreatadvantage.Keywords:polysilicon;reductionofby—products;dichIorosilane;trichlorosilane氢硅在还原过程中抑制三氯氢硅岐化反应的特点,U日『J舌减少三氯氢硅的消耗,提高三氯氢硅一次利用率,减改良西门子法生产多晶硅工艺中⋯,每生产1t少副产物四氯化硅的产生量;这种处理工艺既解决多晶硅会产生1.0~1.6t二氯二氢硅。二氯二氢硅了二氯二氢硅的处理问题,又能加快还原过程中硅具有沸点低、易燃、易爆的性质,难处理,出路少;不棒的生长速度,大大降低还原电耗,同时还能够改
5、善仅在安全上,而且在环保上带来了诸多问题,二氯二多晶硅表观质量。氢硅已经成为多晶硅企业规模化生产、高效化生产多晶硅的超高纯度要求精馏产品二氯二氢硅和的技术瓶颈。三氯氢硅的物料杂质含量达到ppta级别(10),目前,多晶硅厂是将精馏提纯产品二氯二氢硅纯度达到9个“9”,这一方面增加了二氯二氢硅和和三氯氢硅按一定的比例通人还原炉,利用二氯二三氯氢硅的提纯难度,另一方面必然要求精馏塔高回流比,需要消耗相对较多的热量。精馏提纯工序的能耗是多晶硅系统的主要能耗之一,降低精馏[收稿日期]2013—09—20工序的能耗是降低多晶硅成本的最有效途径之一。[作者简介]杨永亮(1981一)
6、,男,大学本科,工程师,本文提出了一种从还原副产物(还原尾气经主要从事多晶硅领域的研究、开发与工程设计工作。干法回收工序得到)中精馏提纯二氯二氢硅和三氯·54·有色冶金节能口新能源氢硅的新工艺,与常规提纯工艺相比,本工艺具有实足送入氢化工序的要求;从精馏2塔的塔顶采出精施方便、分离效果好、能耗低的优点。馏产品,精馏产品为三氯氢硅,满足送人还原工序的要求。1还原副产物中提纯二氯二氢硅和三(3)精馏1塔低沸物中三氯氢硅和二氯二氢硅氯氢硅的工艺的摩尔比例为(0.5~1.5):1,为了回收这部分三氯还原副产物中含有二氯二氢硅、三氯氢硅、四氯氢硅,并使二氯二氢硅达到进入还原工序或
7、氢化工化硅以及微量杂质组分,其中二氯二氢硅、三氯氢序的要求,需要增加低沸物提纯塔进一步提纯。硅、四氯化硅的质量分数分别为5%、47%、48%;微(4)从低沸物提纯塔的塔顶采出低沸物,低沸量杂质主要为硼、磷、铁、铝、钙、铬等化合物。还物主要为含硼化合物等低沸点杂质,此部分低沸物原副产物经过一系列精馏提纯,最终二氯二氢硅、三因杂质含量较高,故不再回收,直接外售;从低沸物氯氢硅中微量杂质含量达到ppta级别(10),产提纯塔底部采出中间氯硅烷,此部分氯硅烷含有二品纯度达到9个“9”,满足送人还原炉的要求。氯二氢硅和三氯氢硅。下面分别介绍常规的提
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