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时间:2019-02-03
《vdmos功率场效应管外延材料的研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、摘要VDMOS功率场效应管外延材料的研究国内功率VDMOS管用外延片现在主要采用6英寸抛光片,但一直以来我国生产的6英寸厚层外延片质量并不能完全满足VDMOS生产的需要,主要是随着衬底尺寸、外延厚度的增长,外延厚度、电阻率一致性以及外延过渡区等诸多问题无法满足要求;同时外延层中的微缺陷和重金属杂质沾污也是VDMOS管失效的主要原因之一。本课题从外延生长的机理进行分析重掺杂(重掺As为例)衬底的自掺杂现象,通过实际、有效、简单的工艺流程来解决外延层一致性差的问题,参数满足VDMOS管对外延材料厚度和电阻率均匀性的要求;分析、推算外
2、延过渡区对VDMOS管参数的影响,通过理论分析、推测,研究重掺杂衬底高阻外延时出现的过渡区问题,通过实用化和最优化的工艺解决该问题,最终优化形成了简化的生产工艺,在满足成品率要求的情况下缩短了生产周期,降低了生产成本。研究分析硅外延层中的微缺陷原理,通过优化工艺,消除厚层外延缺陷多的问题,尤其是导致VDMOS器件失效的重金属杂质沾污问题。关键词:VDMOS;外延层;化学气相淀积;均匀性;过渡区:重金属杂质ABSTRACTAStudyofEpitaxialLayerforPowerVDMOSTransistorABSTRACTMa
3、nyimportantcircuitfunctionsaleimplantedatepitaxiallayerinICanddiscretedevices.6inchchip’productionhasplayanimportantpartinVDMOSfield-effecttransistorproductionsinchina.Our6inchepitaxyproductqualityWasunabletomeettheVDMOStransistorproductionneed.Withlargesizewaferandt
4、hickepitaxiallayer,theuniformityofthickness.resistivity,transitionwidthWasoutofcontrolline.Inthethesis.themechanismofauto-dopingiSstudiedtheoreticallyandthefactorsinfluencingtheauto—dopingofN-typeepitaxiallayerareanalyzed,Basedonthisidea,Iputforwardanew,simpleprocess
5、torestraintheAsauto-dopingsufficiently,andgooduniformityandconsistency(within3%)oftheresistivityoftheN-typesiliconepitaxiallayersareobtained,theepitaxywafersarewidelyusedinVDMOStransistorproductline.AttheSalTletime.thecostisreducedandtheproductivityandyieldsareincrea
6、sed.Byoptimizedtheprocess.thethickepitaxiallayerswithlOWdefaultshavebeenproducted,andtheproblemsofmetalliccontaminationandparticulatecontaminationhavebeensolved.Keyword:VDMOS;Epitaxylayer;CVD;uniformity;transitionwidth;metalliccontamination.1I目录第一章绪论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯
7、⋯⋯⋯⋯11.1VDMOS功率场效应管及其外延材料产业发展状况与趋势⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯11.2本论文研究的内容和工程意义⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..21.2.1VDMOS管硅外延材料生长技术问题和研究现状⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯。21.2.2本论文研究的主要内容及工程意义⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.3第二章硅外延在功率MOS器件发展中的作用⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..42.1VDMOS器件的发展及市场⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..42.2功率器件的硅外延材料⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯42.3硅气相CVD的生长技术⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯
8、⋯⋯⋯⋯⋯52.3.1典型的硅气相外延技术及生长机理分析⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯52.3.2外延层的测量技术分析⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..72.3.3硅外延气相设备⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..10第三章关于外延参数一致性的研究⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯
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