lcd_产业现况解析

lcd_产业现况解析

ID:8446818

大小:186.50 KB

页数:14页

时间:2018-03-28

lcd_产业现况解析_第1页
lcd_产业现况解析_第2页
lcd_产业现况解析_第3页
lcd_产业现况解析_第4页
lcd_产业现况解析_第5页
资源描述:

《lcd_产业现况解析》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、TFT-LCD產業觀察與現況解析報告Y98Q3主辦單位:經濟部工業局執行單位:金屬工業研究發展中心作做作者:產業研究組中華民國九十八年九月財團法人金屬工業研究發展中心文目錄壹、全球LCD曝光設備產業動向2一、前言2二、NIKON啟動10G設備2三、PSA以及光配向以量產程度正式起跑3四、EGIS將CF以及TFT的設備納入目標5五、主要廠商戰略5六、2010年第三季國際TFT-LCD設備廠動態整理9貳、我國TFT-LCD設備產業現況11一、2010年1~8月總營收統計11三、TFT-LCD設備廠商動態1111智權所有.翻印必究智壹、全球LCD曝光設備產業動向壹、全球LCD曝光設備產業動向

2、一、前言受到2008年金融危機的影響,2010年的LCD設備投資活動沉寂。但是,因為目前面板需求快速回溫,之前凍結的投資案又重新復活,據說在2010年上半期將會出現第一波的高峰。其中,Nikon的第10代設備已經交貨並開始啟動,並針對下一世代展開第11代對應設備的研發。另一方面,降低成本技術也是各界關心的焦點。二、NIKON啟動10G設備Nikon終於開始啟動第10代(10G)對應的曝光設備「FX-101S」。沿用以前的概念,光學部分採用多鏡頭掃描方式。在第8代(8G)對應設備中,雖然使用了11個解析度3μm的大口徑鏡頭,在10G的設備中又增加了連接數量,以因應大尺寸面板的需求。並且,

3、還改良設備的平台,在擴大基板尺寸的同時,盡力抑制大型化後的設備尺寸。雖然還不清楚解析度以及產品生產時間等具體規格,不過應確保了與既有設備相同程度的規格。在第7代(7G)/8G對應設備中,發表了可以滿足高產出率需求的最新機種「FX-75S/85S」(表1)。相較於當初開始銷售的同一系列71S/81S機種,產品生產時間速度加快,可達到15s/plate。投入該設備後,可滿足電視面板的需求,並可望再進一步提升市佔率。今後,除了推動下一代設備之第11代(11G)機器研發之外,同時,也將更進一步改善10G對應設備的產品生產時間。11智權所有.翻印必究智壹、全球LCD曝光設備產業動向Canon也集

4、中資源開發11G對應設備。在光學部分以及平台技術部分,繼續沿用以前的技術,在製程腔部分,以朝盡量減少人工作業的方向推動研發。作業員在腔室內作業除了會產生塵埃之外,因為高度高達6~7公尺,也必須考慮安全上的問題。因此,將以前手動操作的光學部分調整作業等,更改為直接操作設備外部的控制盤。另外,為了可以順利開始啟動,以及假設必須在客戶公司現場有效率地完成組裝,也重新檢討了零配件的結構。11G對應設備的交貨預定於2011年的下半期。在曝光設備部分,提高開口率以降低面板的消費電力、安裝120/240Hz驅動等,以改善裝置的性能。既確保了開口率,也出現更多改善解析度以及套準精度的需求。另外,因為既

5、有的大尺寸a-SiTFT的精密程度已經與中小尺寸LCD並駕齊驅,相信將會出現裝置精密度必須高達1.5~2μm程度的要求。至於Netbook筆記本電腦等級的7~11吋,因為隨身攜帶移動,必須降低消費電力。也有人認為製程革新,將從第5代(5G)起重現江湖。三、PSA以及光配向以量產程度正式起跑各家LCD廠商為了因應逼近成本的面板價格降價,紛紛再度降低了生產成本。包括背光源(BL)、光學薄膜的組成、Cell結構、變流器以及電源迴路等所有部分,似乎會出現翻天覆地的變化。第一步就是重新檢討Cell結構。透過重新檢討Cell結構,提高面板的透過率與BL的光使用效率,減少光源的搭載數量。這樣一來,可

6、同時降低成本與降低消費電力。至於最近受到各界矚目的LED-BL,則遇到發熱的問題。在側光式模組中,因為熱度容易集中在面板邊緣部位,液晶材料受損,並且聽說出現了外圍與中央回應速度不同的例子。提高透過率,雖然可幫助減少光源裝載數量,同時也可以成為一種散熱方案,深受各界期待。表1「FX-75S/85S」(Nikon)規格解析度3.5μm(g/h/i線模式)、3.0μm(i線模式)投影倍率1:1對準精度≦±0.6μm基板尺寸1950×2250mm(75S)、2500×2200(85S)光罩尺寸1220×1440mm產品生產時間58s/plate(75S)、60s/plate(85S)(4光罩掃

7、描方式時,30mJ/cm2,4EGA/scan,g/h/i線模式)資料來源:ElectronicJournal(2010/08);金屬中心產研組(2010/09)11智權所有.翻印必究智壹、全球LCD曝光設備產業動向圖1Nikon的最新曝光設備的透視圖資料來源:ElectronicJournal(2010/08);金屬中心產研組(2010/09)在Cell相關技術部分,台灣友達(AUO)在大尺寸生產線上採用PSA(PolymerSustaine

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。