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1、OM光学显微镜opticalmicroscope各种材料学分析测试技术总结原理显微镜就是利用凸透镜的放大成像原理,将人眼不能分辨的微小物体放大到人眼能分辨的尺寸,其主要就是增大近处微小物体对眼睛的张角(视角大的物体在视网膜上成像大),用角放大率M表示它们的放大本领。大于0、2nm瞧不清亚结构EDS能谱仪各种元素具有自己的X射线特征波长,特征波长探头:一般为Si(Li)锂硅半导体(Energy的大小则取决于能级跃迁过程中释放出的特征探头能量△E,能谱仪就就是利用不同元素X射线光Dispersive探测面积:几平方毫米子特征能量不同这一特点来进行成分分析的。Spectrome
2、ter)分辨率(MnKa):～133eV(分为点、线、面扫map)SEM扫描电子显微镜(scanningelectronmicroscope)利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像分辨率:3-4nm即用极狭窄的电子束去扫描样品,通过电子束与利用聚焦得非常细的高能电子束在试样上扫描,激放大倍数:20万倍样品的相互作用产生各种效应,其中主要就是样发出各种物理信息。通过对这些信息的接受、放大品的二次电子发射特征X射线、背散射电子的与显示成像,获得测试试样表面形貌的观察。产生过程均与样品原子性质介于透射电镜与光学显微镜之间的一种微观性
3、其工作原理就是用一束极细的电子束扫描样品,在有关,可用于成分分析。貌观察手段样品表面激发出次级电子,次级电子的多少与电子由于电子束只能穿透很浅表当一束极细的高能入射电子轰击扫描样品表面束入射角有关,也就就是说与样品的表面结构有关,各种材料学分析测试技术总结时,被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、次级电子由探测体收集,并在那里被闪烁器转变为面,只能用于表面分析。特征x射线与连续谱X射线、背散射电子、透光信号,再经光电倍增管与放大器转变为电信号来有很大的景深,视野大,成像射电子,以及在可见、紫外、红外光区域产生的控制荧光屏上电子束的强度,显示出与电子束同步立体,可直接观察表面的
4、细微电磁辐射。的扫描图像。图像为立体形象,反映了标本的表面结结构;构。SEM就是利用电子与物质的相互作用,可以获取试样制备简单。被测样品本身的各种物理、化学性质的信息,如形貌、组成、晶体结构、电子结构与内部电场目前的扫描电镜都配有X射或磁场等等。主要就是利用二次电子信号成像线能谱仪装置,这样可以同时来观察样品的表面形态,即用极狭窄的电子束去进行显微组织性貌的观察与扫描样品,通过电子束与样品的相互作用产生各微区成分分析种效应,其中主要就是样品的二次电子发射。TEM透射电镜(transmissionelectronmicroscope把经加速与聚集的电子束投射到非常薄的样品上,
5、电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像,影像将在放大、聚焦后在成像器件上显示出来。由于电子波长非常短,透射电子显微镜的分辨率比光学显微镜高的很多,可以达到0、1～0、2nm,放大倍数为几万～百万倍。与光学显微镜的成像原理基本一样,所不同的就是前者用电子束作光源,用电磁场作透镜。透射电镜就是以电子束透过样品经过聚焦与放大后所产生的物像,投射到荧光屏上或照相底片上进行观察SEM就是电子束激发出表面次级电子,而TEM就是穿透试样,而电子束穿透能力很弱,所以TEM样品要0、2nm近百万倍亚显微结构、超微
6、结构使用透射电子显微镜可以用于观察样品的精细结构,甚至可以用于观察仅仅一列原子的结构,比光学显微镜所能够semtem区别各种材料学分析测试技术总结求很薄,观察到的最小的结构小数万倍。SEM的样品中被激发出来的二次电子与背散射TEM可以标定晶格常数,从而确定物相结构;SEM主SEM就是扫描电镜,所加电压电子被收集而成像、TEM可以表征样品的质厚要可以标定某一处的元素含量,但无法准确测定结比较低,只就是扫描用的,相衬度,也可以表征样品的内部晶格结构。TEM的构。当于高倍的显微镜TEM就是分辨率比SEM要高一些。透射电镜,所加电压高,可以SEM样品要求不算严苛,而TEM样品观察的
7、部分打透样品,必须减薄到100nm厚度以下,一般做成直径3mm的片,然后去做离子减薄,或双喷。HRTEM高分辨透射电镜高分辨电镜物镜极靴间距比较小,所以双倾台的类TEMHighresolution转角相对于分析型的电镜要小一些。transmissionHRTEM就是透射电镜的一种,将晶面间距通过electron明暗条纹形象的表示出来。通过测定明暗条纹microscope的间距,然后与晶体的标准晶面间距d对比,确定属于哪个晶面。这样很方便的标定出晶面取向,或者材料的生长方向。用HRTEM研究纳米颗粒可以通
