Thermo气质联用技术参数.docx

Thermo气质联用技术参数.docx

ID:59252359

大小:14.72 KB

页数:3页

时间:2020-09-08

Thermo气质联用技术参数.docx_第1页
Thermo气质联用技术参数.docx_第2页
Thermo气质联用技术参数.docx_第3页
资源描述:

《Thermo气质联用技术参数.docx》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、气相色谱/质谱联用仪技术参数仪器用途说明用于气体、液体和固体样品中微量或痕量挥发性和半挥发性有机物的定性和定量分析,可用于有机物的确认工作环境条件1工作电压:220V±5%,50Hz2温度:18-26℃(最佳环境);15-31℃(操作环境)3相对湿度:40-80%一、气相色谱部分1.系统性能指标1.1保留时间重现性:<0.0008min1.2峰面积重现性:<0.5%RSD2.柱温箱2.2操作温度范围:室温以上3℃到450℃2.4温度控制精度:0.1℃*2.5程序升温:32阶/33平台*2.6最高升温速率:125℃/min2.7柱温箱冷却时间:从450℃降温至50℃,小于4min(

2、室温22°C)2.8温度稳定性:0.01℃/1℃3.电子压力控制器3.1压力范围:0~1000kPa*3.2全程压力控制精度:0.001psi3.3最大分流比:12500:14.分流不分流进样口:进样口即时联接模块设计,用户可随时更换进样口模块,最高操作温度:400℃5.自动进样器5.1带有155位(2mL)自动进样器5.2最小进样体积:0.01µl5.3进样精度:RSD<0.3%5.4进样体积:0.01-5µl5.5溶剂瓶:4x4ml5.6废液瓶:40ml6.检测器:检测器采用模块化设计,可实现2分钟内快速更换检测器二、质谱部分1离子源*1.1一体化的离子源部件设计,包括推斥极

3、、离子盒和透镜组,离子源整体拆卸无需停泵卸真空。1.2无镀层的惰性材料,离子源独立加热控制,温度可到350℃;减少维护,增加运行时间。1.3提供独立于源加热板的单独透镜加热板,对透镜与离子光学通道进行额外的温度控制,防止复杂基质对离子光学部件的污染。*1.4EI与PCI和NCI的切换无需停泵卸真空。1.5电子束校准磁场,有利于提高离子化效率。*1.6精确调节的灯丝发射电流最大可到350µA*1.7可调的气质接口温度最高400℃,可有效的将化合物,包括高沸点化合物从GC传递到质谱仪。*1.8一体化的、同方向、并有灯丝透镜保护的双灯丝组件设计,有效调节发射电流,灯丝具有透镜保护,不受

4、样品电离时的污染,提高灯丝使用寿命。双灯丝既可用于EI模式又可用于CI模式。*2“S”型弯曲的离子光学通道:“S”型弯曲的离子光学通道具有RFlens保护鞘防止其受到污染,而拆卸RFlens保护鞘无需停泵卸真空。3四极杆质量分析器3.1全金属钼主四极杆,惰性,均一无镀层设计,可打磨可清洗。*3.2质量范围:1.2–1100u3.3分辨率:全质量范围内单位质量分辨3.4扫描速度:20000u/s3.5采集速率*3.5.1SIM模式,采集速率≥240scans/sec*3.5.2全扫描模式(扫描范围≥125u),采集速率≥97scans/sec3.6灵敏度(使用He气做载气):3.6

5、.1EI全扫描,1pg/µL八氟萘进样1µL,扫描范围50-300u,S/N≥1500:1(mass272,RMS)*4检测器系统:新一代离散型电子倍增器和静电计,最大线性输出电流68µA,提供宽达9个数量级的线性动态范围。5真空系统:空气冷却的高真空大抽速分子涡轮泵*5.1分子涡轮泵抽速为300L/s(He)*5.2前级机械泵抽速为3.3m3/h6仪器控制6.1具有棒状图和轮廓图数据采集能力*6.2提供全扫描、选择离子扫描和全扫描/选择离子扫描交替扫描(>100组)。6.3可对每段扫描的扫描速度、扫描范围、离子极性、棒状图或轮廓图的采集、发射电流、检测器增益、化学源气体流速,指

6、定调谐文件进行控制。7数据处理系统:手动/自动调谐,数据采集,数据检索,分析结果报告,定量分析及谱库检索功能。8谱库:NIST11谱库。

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。