氮化硅刻蚀机培训教程.docx

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1、.Tel/lam氮化硅刻蚀机培训教案一简介：Tel/lam氮化硅刻蚀机是一种平板式的干法刻蚀设备，用于氮化硅的干法刻蚀，其工作原理为特种气体SF6,CHF3在RF下电离并与氮化硅发生反应。二结构组成它由以下几部分组成：主机部分、电源部分、泵组部分、射频部分和气体供给部分部分。1主机部分：它是氮化硅刻蚀机的主体部分，包括显示器、传递腔、反应腔、传动系统及设备的主要控制系统。2电源部分：系统供电208V进入，经变压器，继电器等变为所需的电压输出。该设备泵组电源由电源柜控制。3射频部分：在气体反应时提供13.56MHZ的高频电源，以便气体在高真空环境下电离，产生等离子体。射频匹

2、配系统位于主机上部，用于对射频源所提供的高频通过可变的电感电容进行匹配，以便提供给设备稳定高效的射频。射频电源为208VAC供电，外接冷却水为本体发热元件降温。4泵组部分：由机械泵、增压泵和真空管线构成抽反应腔的真空系统，以达到工艺反应时所需的真空度要求。由18泵及配套的真空管线用于抽传递腔的真空。现在我们使用的泵组位于一楼回风区内。5气体供给部分：由特气柜、特气瓶和特气管线构成。用于提供反应所需的特种气体，其中用于提供特气的特气瓶至于一楼回风区内，特气经..二次减压提供给设备，并由质量流量计进行控制。三Tel/lam氮化硅刻蚀机的基本操作1当操作本台设备时，应首先检查该

3、设备的动力条件，具体条件如下：压缩空气：0.7±0.1MPa氮气:0.3±0.05MPa用于射频冷却的冷却水是否有，反应所用的特气是否有，设备面板的电极温度是否和设定的温度相符，排风是否正常。2操作：按照设备操作流程进行操作3面板按键：LOAD用于下载初始化程序SAVE保存程序RECIPE用于编辑反应的程序STATUS用于观察设备所处的状态PARAMETERS用于设置设备参数OPTIONS用于设备的手动操作及观察设备运行时的参数变化START开始设备开始运行STOP终止下一片硅片从传片筐传出FIELDSELECT用于切换设定状态设备面板另有四个用于光标移动的按健及一个数字

4、键盘四Tel/lam氮化硅刻蚀机的常见故障及应急故障处理1真空故障：主要显示为反应腔或者传递腔真空达不到，真空漏率较大。可能引起该故障的主要原因为：真空泵能力下降，真空管线连接不好，设备内部密封件老化，真空监测系统不准确。传递腔不能达到大气压.其故障原因为用于检测其是否达到大气压的压力开关松动或损坏、充气的阀门没有打开或者是系统氮气没有供给..2射频故障：主要为射频信号加不上，反射功率大，射频源温度过高报警。可能引起该故障的主要原因为：射频电缆连接处接触不好，匹配单元连接不好，射频源控制板故障，温度高(OVERHEAT)是因为冷却水管线堵塞造成。4传递系统故障：主要表现为

5、硅片在传递皮带上不动作；装载片筐的升降台不动作；机械手传接片子位置不正，其直接的影响会使硅片碎裂，严重时会导致主反应腔内的针（用于托片子）弯曲。可能引起故障的原因为：传递皮带断裂及带动皮带的电机出现故障；升降台的保险断开，控制系统有故障此时系统复位即可，机械手的限位不正确或气缸(电机)有故障。5控制系统故障：常见为屏幕出现乱码。产生此故障的原因通常为存储块接触不良或是电源不稳定。6电极冷却部分故障：主要表现为电极温度升高.其产生的原因为用于冷却的系统无氟利昂，热交换器水箱温度设置过低导致水冷凝，传递水的管线堵塞，用于转换水路的电磁阀不能正常动作。.