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时间:2020-09-04
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1、等离子刻蚀培训射频功率反射功率特气流量蝶阀真空压力一、主程序的主要步骤1、Pumpdown这步主要是预抽,抽掉一些杂质气体。这时压力降到10,000mt,大约是十分之一个大气压。蝶阀处在位置模式,固定开合度,使压力快速降到设定值。2、Flowgas往反应室充入反应气体。压力进一步降到5,000mt。蝶阀仍处在位置模式。3、Servo此步主要起稳压的作用,让反应气体均匀充满整个反应室。压力进一步降到230mt,达到辉光放电所需的真空条件。蝶阀处在压力模式,通过控制蝶阀的开合度,精确控制真空压力大小。4、RF开启射频源,产生等离子体,反应开始。开启旋转体,让
2、硅片每边都有均等机会接触到等离子体产生源蝶阀处在压力模式。持续地充入反应气体。5、Pumpdown关闭射频源,停止充入反应气体,反应结束。抽掉生成气体及未反应的滞留气体。蝶阀重回位置模式。6、Purge充入N2,吹扫边缘位置粉尘等沉积物,将P2O5等带离表面。同时,进一步将残留的有害气体清除干净。充入N2还有冷却和回压的作用。压力回升到10,000mt以上,平衡舱门两边压降。二、程序建立方法主程序由子程序组成,子程序内容、数量和排序位置可自由设定。前面所讲的6步骤即为6个子程序,由厂家原始给定的程序进行改动优化而来。主程序建立方法:第一步:选择退出自动运
3、行界面第二步:在界面右侧点击进入PROCESS(程序)第三步:点击NEW(新建),在PROCESSNAME(程序名称)输入程序名,如TEST-5。第四步:在左侧Stepsavalible(可用子程序)选择一个子程序,点击Add(添加)到右侧的Stepsonprocess(点选子程序)。可以通过添加、移除、上移、下移调整子程序。第五步:最后点击SAVE(储存),主程序建立完成。3、子程序建立方法:第一步:选择退出自动运行界面第二步:在界面右侧点击进入STEP(子程序)第三步:点击NEW(新建),在STEPNAME(子程序)输入程序名,如RF-5。第四步:在
4、当前界面输入各项参数。以第4步RF-5为例,当前步实现等离子体的产生及刻蚀反应,要开启射频源,功率设为850W;为实现压力的精确控制,在压力控制器处选择presuremode(位置模式),所设定压力为230mt;开启旋转体,速度设为8转分;作用时间设为1200s;持续充入反应气体,流量设定为O240sccm,CF4200sccm。第五步:最后点击SAVE(储存),子程序建立完成。三、手动模式正常情况下,机器工作时处在自动模式。当出现异常状况,可通过手动模式退出自动运行。因此相应的操作需要了解。手动运行刻蚀方法:第一步:开启V00、V01阀门第二步:压力
5、控制器选择在位置模式,启动真空泵。压力控制器处输入数值10,000,点击ON;当压力稳定在10,000后,再输入数值5,000,点击OFF,再点ON。第三步:在气压计的腔室状态显示真空后,在V04、V05阀门,输入O2、CF4数值,点击ON。第四步:在RF(射频产生器)输入数值。第五步:调整到压力模式,输入设定真空压力。点击OFF,再点击ON。第六步:压力达到设定值后,打开射频开关。第七步:打开旋转体,输入旋转速度。开始计时。2、手动退出刻蚀方法:第一步:关闭射频源。第二步:关闭GAS(气体)开关,关闭V04、V05阀门。第三步:关闭旋转开关。第四步:在
6、压控器处输入数值10,000,点击OFF,再点ON。第五步:在腔室压力达到10,000后,关掉真空泵开关,关闭V00阀门。第六步:开启V02阀门进行吹扫。当腔室状态显示为大气时,开启舱门。四、常见异常情况及处理刻蚀不透设备问题。射频功率、气体流量、真空压力的波动及旋转体不转都可能导致刻蚀不透。片源问题。前道工序出现扩散问题,导致片源表面氧化层太厚,也会产生刻蚀不透的现象。动力供应问题。动力供应的反应气体纯度不够,导致反应不完全。解决办法:出现设备、动力问题,与相应的部门协调解决问题。片子需要重刻,并观察重刻效果;出现片源问题,可以多刻蚀几次。如果还未能刻
7、透,当返工片处理。2、辉光颜色不对辉光的颜色与反应气体成分有关,正常情况下的辉光颜色为乳白色。因此,如果出现辉光颜色不对,而且是在所有机器上同时出现,则是动力供应出现问题。解决办法:通知动力部解决问题;片子视情况决定是否需要重刻。3、台阶线太宽台阶线宽度与工艺有关,以当前的工艺来说,正常情况下台阶线宽度应该在1mm左右。如果出现台阶线宽度太大,且呈波浪线型,是因为片子夹具没有夹紧。同时,也有可能是生产员工选错工艺导致。解决办法:规范生产员工操作。THANKS
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