信息给予型氧化还原反应的书写(好).doc

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1、信息给予型氧化还原反应的书写1．(1)完成化学方程式：________CuO＋________Al2O3________CuAlO2＋________↑。(2)H3PO2的工业制法是：将白磷(P4)与Ba(OH)2溶液反应生成PH3气体和Ba(H2PO2)2，后者再与H2SO4反应。写出白磷与Ba(OH)2溶液反应的化学方程式：__________________________________________。(3)PbO2与浓盐酸共热生成黄绿色气体，反应的化学方程式为__________________________________。(4)②PbO2可由PbO

2、与次氯酸钠溶液反应制得，反应的离子方程式为____________________________。2．(1)某反应池发生“生物硝化”过程，利用O2将NH4+氧化成NO3—，如果不考虑过程中硝化细菌的增殖，其反应如下所示：请完成上述离子方程式的配平。(2)请将下列五种物质：KBr、Br2、I2、KI、K2SO4分别填入下列横线上，若I2和KBr的化学计量数分别是8和1，请组成一个配平的化学方程式_____KBrO3＋________＋____H2SO4―→________＋________＋________＋________＋____H2O(3)向盛有KI溶液的试管

3、中加入少许CCl4后滴加氯水，CCl4层变成紫色。如果继续向试管中滴加氯水，振荡，CCl4层会逐渐变浅，最后变成无色。写出并配平CCl4层由紫色变成无色的化学反应方程式：(3)亚氯酸根离子（ClO2—）对人体不利。欲在弱碱性条件下将水中的ClO2—转化为Cl－除去，若该反应体系中的物质有：NaClO2、Fe(（OH）)3、NaHCO3、FeCl2、NaCl、H2O、CO2。写出并配平有关化学方程式，并标出电子转移的方向和数目。_______________________________________________________________________

4、__________(4)SO2的存在对CO2的检验会造成干扰，实验室常用酸性高锰酸钾溶液除去SO2，请写出该反应的化学方程式：________________________________________________________________________________。3．氧化锌为白色粉末，可用于湿疹、癣等皮肤病的治疗。纯化工业级氧化锌[含有Fe(Ⅱ)、Mn(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)等杂质]的流程如下：提示：在本实验条件下，Ni(Ⅱ)不能被氧化；高锰酸钾的还原产物是MnO2。反应②中除掉的杂质离子是____________________________

5、________，发生反应的离子方程式为__________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________第5页共5页4．(1)高铁酸钾(K2FeO4)是一种强氧化剂，可作为水处理剂和高容量电池材料。FeCl3和KClO在强碱性条件下反应可制取K2FeO4，其反应的离子方程式为：_________________

6、_______________________________________________________(2)氧化还原反应是氧化和还原两个过程的对立统一。现有一个还原过程的反应式如下：NO＋4H＋＋3e－===NO↑＋2H2O(a)下列五种物质中能使上述还原过程发生的是________(填字母)。A．KMnO4　　B．Na2CO3　　C．Cu2O　　D．Fe2(SO4)3(b)写出上述反应的化学方程式并配平：______________________________________________5．某制碘的流程图如下写出反应①的化学方程式：________

7、_________________________________________________________6．氧化镁在医药、建筑等行业应用广泛。硫酸镁还原热解制备高纯氧化镁是一种新的探索。以菱镁矿(主要成分为MgCO3，含少量FeCO3)为原料制备高纯氧化镁的实验流程如下：加入H2O2氧化时，发生反应的化学方程式为__________________________________________7．二氧化氯（ClO2，黄绿色易溶于水的气体）是高效、低毒的消毒剂，回答下列问題：（1）工业上可用KClO3与Na2SO3在H2SO4存在下制得ClO2，该反应