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1、第43卷第1期表面技术2014年02月SURFACETECHNOLOGY·1·脉冲偏压占空比对TiN/TiAIN多层薄膜微观结构和硬度的影响魏永强,张艳霞。,文振华,蒋志强,冯宪章(1.郑州航空工业管理学院机电工程学院,郑州450015;2.航空制造及装备河南省高校工程技术研究中心,郑州450015;3.郑州信息科技职业学院机电工程系,郑州450015)摘要:目的研究脉冲偏压占空比对TiN/TiA1N多层薄膜微观结构和硬度的影响规律。方法利用脉冲偏压电弧离子镀的方法,改变脉冲偏压占空比,在M2高速铜表面制备5种TiN/TiA1N多层薄膜
2、,对比研究了薄膜的微观结构、元素成分、相结构和硬度的变化规律。结果TiN/TiA1N多层薄膜表面出现了电弧离子镀制备薄膜的典型生长形貌,随着脉冲偏压占空比的增加,薄膜表面的大颗粒数目明显减少。此外,脉冲偏压占空比的增加还引起多层薄膜中Al//Ti原子比的降低。结论TiN/TiA1N多层薄膜主要以(1l1)晶面择优取向生长,此外还含有(311),(222)和(200)晶相结构。5种多层薄膜的纳米硬度均在33GPa以上。3"-脉冲偏压占空比为20%时,可实现超硬薄膜的制备。关键词:TiN/TiA1N;电弧离子镀;纳米硬度;微观结构;脉冲偏压
3、占空比中图分类号:TG174.444文献标识码:A文章编号:1001—3660(2014)01-0001-06EfectsofDiferentPulsedBiasDutyCycleontheMicrostructureandHardnessofTiN/TiAlNMultilayerCoatings’聊Yong-qiang,,ZHANGYan-xia。,’'蜊Zhen-hua’,JIANGZhi-qiang,,J£^(Xian.zhang,(1.SchoolofMechatronicsEngineering,ZhengzhouInstit
4、uteofAeronauticalIndustryManagement,Zhengzhou450015,China;2.EngineeringTechnologyResearchCenterofAviationManufacturing&Equipment.UniversityofHenanProvince,Zhengzhou450015,China;3.SchoolofMechatronicsEngineering,ZhengzhouVocationalUniversityofInformationandTechnology,Zhen
5、gzhou450015,China)收稿日期:2013—10.12:修订日期:2013.11-22Received:2013—10—12;Revised:2013-11-22基金项目:国家自然科学基金(51105344);航空科学基金(2012ZE55011);河南省教育厅科学技术研究重点项目(13A430397,14A140026);河南省科技厅基础与前沿技术研究计划(132300410241);河南省高校科技创新团队支持计划(2O12IRTsTHN014);郑州航院科研创新团队建设项目(2014TD01)Fund:Supported
6、bytheNaturalScienceFoundationofChina(51105344),theAviationFoundationofChina(2012ZE55011),theScienceandTechnologyl~[esearehProjectsofHenanEducationCommittee(13A430397and14A140026),theBasicandFrontierTechnologyResearchFoundationofS&TCommitteeofHenanProvince(132300410241),t
7、heProgramforScience&TechnologyInnovativeResearchTeaminUniversityofHenanProvince(2012IRTSTHN014),ZhengzhouInstituteofAeronauticalIndustryManagement(2014TD01)作者简介:魏永强(1980一),男,博士,讲师,主要研究方向为薄膜材料与制备技术。Biography:WEIYong-qiang(1980一),Male,Ph.D.,Lecturer,Researchfocus:coatingsm
8、aterialsandsurfacetechnology.-2·表面技术2014年02月ABSTRACT:0hiectiveTostudytheeffectsofpulsedbiasdutycycleont
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