Si离子注入对TiN薄膜的微观结构和力学性能的影响.pdf

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1、第3O卷第3期物理测试Vo1.30,No.32012年5月PhysicsExaminationandTestingMay2012Si离子注入对TiN薄膜的微观结构和力学性能的影响秦华,陶冶,邓斌(北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京100191)摘要:采用MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空电弧沉积的TiN薄膜注入不同剂量的Si元素,利用XPS和纳米硬度仪表征si离子注入后化学成分、元素键合状态以及硬度的变化。结果表明,si离子注入后,薄膜表面硬度得到提高,5×10ions/cm的样品硬度峰值从27.18GPa增加到39.85GPa,随着注入剂量的增加,纳米硬度峰值有下降的

2、趋势,1×10”ions/cm。的样品硬度峰值为33.27GPa,但表面改性层的深度增加,纳米硬度在一定的深度范围内得到了整体的提高。离子注入使薄膜表面层的弹性模量显著提高,表层弹性模量随注入剂量的增加而提高。并且由于Si元素的注入,形成了新的微结构相Si。N,新相的含量与注入剂量有关。关键词:TiN薄膜;Si离子注入;纳米硬度;XPS文献标志码:A文章编号:1001—0777(2O12)03—0031-04Effect0n】Ⅵicr0structureandMechanicalProperties0fSi—IonImplantedTiNCoatingsQINHua,TAOYe,

3、DENBing(SchoolofMaterialsScienceandEngineering,BeihangUniversity,Beijing100191,China)Abstract:Metalvaporvacuumare(MEVVA)ionsourcewasusedtoimplantsiliconionintoTiNcoatingswithvarieddose.X-rayphotoelectronsectroscopy(XPS)wasemployedtOinvestigatetheprofileofthechemicalcompo—sition.Nanoindenterte

4、stedthenanohardnessofSi-implantedTiNcoatings.Theresultsrevealedthatthenanohard—nessofSi—ionimplantedTiNcoatingschangedremarkably.5×10ions/cmsample’SnanohardnesspeakincreasedtO39.85from27.18GPa,withtheimplanteddoseincreased,nanohardnesspeakhadthetendencytodecrease,1×10ions/cmsample’Shardnesspe

5、akwas33.27Gpa,butimplantationlayerwasincreasedoverallinacertaindepthrange.NewmicrocrystaUinephasesSi3N4wereformedwhichhavebeenprovedbyXPS,andthenewnanophasehasinfluenceonmechanicalpropertyofcoatings.Keywords:TiNcoatings;Si—ionimplantation;nanohardness;XPS为了有效地提高材料的表面性能,MEVVA金沉积无法进行,运用离子注入技术能灵

6、活控制和提属离子源离子注入技术被广泛应用于机械、半导体高薄膜的Si含量。本文主要研究Si离子注入对和抗腐蚀等工业领域口]。近年来,很多人对离子注TiN薄膜的硬度、相组成、化学价态的影响。入硬质薄膜后的效果进行了研究,得到了十分有用1试样制备与检测的结果。AtsushiMitsuo等]发现,c离子注入TiN薄膜后能够减小TiN薄膜的摩擦系数和磨损样品采用硬质合金(15Inm×15mm×4mm)量,提高TiN薄膜的耐磨性能;K.P.Purushotham作为沉积基底,沉积之前在丙酮中进行超声清洗,除等[7]研究发现zr离子注入TiN薄膜能够提高薄膜油后放入真空室,真空室本底真空度为3

7、×10_Pa。的耐蚀性能;JerzyNarojczyk等发现Al和N离利用磁过滤多弧离子镀的设备在样品表面沉积一层子注入TiN薄膜能够有效地提高薄膜的硬度。近约1m厚的TiN薄膜,随后样品采用MEVVA离来一些研究集中在TiSiN纳米复合薄膜上,如研究子源进行Si离子注入,其中,样品1注入剂量为0,Si原子含量和生长情况对薄膜微观结构和力学性样品2注入剂量为5×10¨ions/era。,样品3注入剂能的影响[9-11],结果表明,在相同条件下,TiSiN纳量为1×10"ions/

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