去psg去磷硅玻璃.doc

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1、去磷硅玻璃该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中，通过化学腐蚀法也即把硅片放在氢氟酸溶液中浸泡，使其产生化学反应生成可溶性的络和物六氟硅酸，以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃。在扩散过程中，POCl3与O2反应生成P2O5淀积在硅片表面。P2O5与Si反应又生成SiO2和磷原子，这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2，称之为磷硅玻璃。去磷硅玻璃的设备一般由本体、清洗槽、伺服驱动系统、机械臂、电气控制系统和自动配酸系统等部分组成，主要动力源有氢氟酸、氮气、压缩空气、纯水，热排风和废水。氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸与二氧化硅反应生成易挥发的四氟化硅气体。若氢氟酸过量

2、，反应生成的四氟化硅会进一步与氢氟酸反应生成可溶性的络和物六氟硅酸。1.什么是磷硅玻璃？在扩散过程中发生如下反应：POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面，P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子：这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2，称之为磷硅玻璃。2．磷硅玻璃的去除氢氟酸是无色透明的液体，具有较弱的酸性、易挥发性和很强的腐蚀性。但氢氟酸具有一个很重要的特性是它能够溶解二氧化硅，因此不能装在玻璃瓶中。在半导体生产清洗和腐蚀工艺中，主要就利用氢氟酸的这一特性来去除硅片表面的二氧化硅层。v氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化硅作用生成易挥发的四氟化硅气体。v若氢氟酸过

3、量，反应生成的四氟化硅会进一步与氢氟酸反应生成可溶性的络和物六氟硅酸。v总反应式为：3.去除磷硅玻璃工艺清洗液配制装片开机投片清洗甩干4.清洗液配制v将各槽中破损硅片等杂质清除，用去离子水将各槽壁冲洗干净。v1号槽中注入一半深度的去离子水，加入氢氟酸，再注入去离子水至溢流口下边缘。v向后面的槽中注满去离子水。装片v经等离子刻蚀过的硅片，检验合格后插入承片盒。v注意，经过磷扩散处理的表面，刻蚀之后硅片在插入承片盒时也严格规定了放置方向。每盒25片，扣好压条，投入清洗设备。5.注意事项v在配制氢氟酸溶液时，要穿好防护服，戴好防护手套和防毒面具。v不得用手直接接触硅片和承载盒。v当硅片在

4、1号槽氢氟酸溶液中时，不得打开设备照明，防止硅片被染色。v硅片在两个槽中的停留时间不得超过设定时间，防止硅片被氧化。6.检验标准v当硅片从1号槽氢氟酸中提起时，观察其表面是否脱水，如果脱水，则表明磷硅玻璃已去除干净；如果表面还沾有水珠，则表明磷硅玻璃未被去除干净。v甩干后，抽取两片硅片，在灯光下目测：表面干燥，无水迹及其它污点。