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时间:2020-01-23
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1、专用集成电路设计授课教师:张立文电子信息工程学院河南科技大学2009-10-14第三章MOS集成电路器件基础3.2MOS管的电流电压特性3.3MOS电容3.4MOS管的Spice模型参数3.5MOS管小信号等效电路7/25/202123.1.1NMOS管的简化结构如图3-1所示该器件制作在P型衬底上,两个重掺杂N区形成源区和漏区,重掺杂多晶硅区作为栅极,一层薄SiO2绝缘层作为栅极与衬底的隔离。在栅氧下的衬底表面是导电沟道。图3-1NMOS管的简化结构复习一下上节内容:7/25/202133.1.3MOS管常用符
2、号图3-4MOS管常用符号7/25/20214图3-5给出增强型NMOS管和PMOS管工作在恒流区的转移特性,其中UTHN(UTHP)为开启电压,即阈值电压。PMOS的导通现象类似于NMOS,但其所有的极性都是相反的。栅源电压足够“负”,在氧化层和N衬底表面就会形成一个由空穴组成的反型层。图3-5MOS管的转移特性3.2.1MOS管的转移特性7/25/202153.2.2MOS管的输出特性增强型NMOS输出特性如下图3-6。栅压UGS超过阈值电压UTHN后,开始出现电流且栅压UGS越大,漏极电流也越大的现象,体现
3、了栅压对漏极电流有明显的控制作用。漏极电压UDS对漏极电流ID的控制作用基本上分两段,即线性区和饱和区。为了不和双极型晶体管的饱和区混淆,将MOS管的饱和区称为恒流区。线性区和恒流区是以预夹断点的连线为分界线。7/25/20216线性区恒流区7/25/202171、分析一个载有电流I的半导体棒,如果沿电流方向的电荷密度是Qd(C/m),电荷移动速度是v(m/s),则电流:I=Qdv。2、考虑一个漏源都接地的NMOS,在UGS≥UTH时,开始出现反型层沟道电荷:Qd=WCox(UGS-UTH),WCox表示单位长度
4、的总电容。图a3、若漏极电压大于0,由于沟道电势从源极的0V变化到漏极的UDS,则栅与沟道的局部电压从UGSS-UTH变化到UGSS-UTH-UDS。因此沿轨道x点处电荷Qd(x)=WCox(UGS-UTH-Ux),图b0xLab7/25/20218恒流区电流方程在忽略沟道调制影响时为平方律方程,即(3-13)在恒流区,栅源电压UGS对ID的控制能力用参数gm表示,称之为“跨导”:(3-14a)(3-14b)(3-14c)3.2.5MOS管的跨导gm7/25/20219前面所有结论是在衬底与源极等电位的前提下得出
5、来的。3.2.6体效应与背栅跨导gmb图3-10UBS<0的MOS管(V2)如果在同一衬底上做许多管子,为了保证导电沟道和衬底之间的隔离,其PN结必须反偏,一般N管的衬底要接到全电路的最低电位点,P管的衬底接到最高电位点UDD。因此,有些管子的源极和衬底之间存在电位差,即UBS<0。如图所示,V2的UBS<0。7/25/202110当UBS<0时,沟道与衬底间的耗尽层加厚,导致阈值电压UTH增大,沟道变窄,沟道电阻变大,ID减小,人们将此称为“体效应”、“背栅效应”或“衬底调制效应”。考虑体效应后的阈值电压UTH
6、为:(3-15)式中:UTHO—UBS=0时的阈值电压;γ—体效应系数,γ的典型值在0.3V1/2~0.4V1/2之间。7/25/202111引入背栅跨导gmb来表示UBS对漏极电流的影响,其定义为:(3-16a)通常用跨导比η来表达背栅跨导gmb与栅跨导gm的关系:(3-16b)式中的gm为栅跨导(gm=ID/UGS)。7/25/2021123.3MOS电容MOS电容分两类:一类是参与运算的专门制作的MOS电容,例如开关电容网络中的积分电容和等效电阻用电容,这类电容要求电容值相对准确而稳定。另一类是MOS管极间
7、电容和寄生电容,这类电容越小越好,这类电容大了会影响电路的带宽、工作速度。7/25/2021133.3.1用作单片电容器的MOS器件特性UGP型衬底如果NMOS场效应管的漏、源和衬底接地,从一个很负的栅极电压UG开始,栅上的负电势将把衬底中的空穴吸引到氧化层表面,栅极和高浓度空穴就像是平板电容器的两个极板,由于电容器的两极板被tox分离,这时NMOS器件可以认为是单位面积电容为Cox的电容器。7/25/202114对于栅电容,随着UGS从负向正变化,其电容的变化:当UGS为负时,将衬底中的空穴吸引到氧化层界面,我
8、们称此处为“积累区”。随着UGS负压变小,界面空穴密度下降,在氧化层下开始形成耗尽层,器件进入弱反型状态。总电容为Cox与Cdep的串联电容,总电容减小。随着UGS为正且进一步加大超过UTH时,器件进入强反型层状态,导电沟道出现,Cox基本不变。图3-14MOS栅电容与UGS的关系曲线7/25/202115专门用作MOS电容的器件相当于二端器件,如图3-12所示。其中,图
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