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《纳米氧化锡制备方法的研究进展_朱路平》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、第9期电子元件与材料Vol.23No.92004年9月ELECTRONICCOMPONENTS&MATERIALSSep.2004科技动态TRENDS纳米氧化锡制备方法的研究进展朱路平,贾志杰(华中师范大学纳米科技研究中心,湖北武汉430079)摘要:从制备氧化锡的方法,原理和工艺特点等几方面综述了近年来纳米氧化锡粉末、薄膜、棒、线、带的最新研究进展。着重阐述了制备准一维纳米氧化锡的过程及各自的生长机制。并对纳米氧化锡粉体制备的研究方向和产业化发展趋势作了展望。关键词:无机非金属材料;纳米氧化锡;制备方
2、法;研究进展中图分类号:TN304.21文献标识码:A文章编号:1001-2028(2004)09-0034-03ResearchProgressonPreparingMethodsofNano-SnO2ZHULu-ping,JIAZhi-jie(CenterofNano-scienceandTechnology,CentralChinaNormalUniversity,Wuhan430079,China)Abstract:ReviewedwerethepreparingmethodsofNano-Sn
3、O2includingpowder,thinfilm,rod,wireanddendrite.Andthepreparingmethodsandgrowthmechanismofquasi-one-dimensioned(1D)nano-SnO2werekeypoints.Onthebasisofthesediscussions,thedevelopingtendencyandindustrializationprospectforpreparingmethodsofnano-SnO2werealsop
4、roposed.Keywords:inorganicnon-metallicmaterials;nano-SnO2;preparingmethods;researchprogress氧化锡是一种典型的n型半导体材料,其Eg=3.5用,如作为太阳能电池的窗口材料,气敏传感器的敏eV(300K),其用途广泛,在有机合成中,可用作催化感材料,透明加热膜等。目前制备SnO2薄膜的方法剂和化工原料;在陶瓷工业中可用作釉料和搪瓷乳浊主要有如下几种。剂;同时还可用于导电材料,薄膜电阻器,光电子器表1纳米SnO2粉体的
5、制备方法及其特点Tab.1Preparationandcharacteristicofnano-sizeSnO2powders[1]件等领域。由于小尺寸效应及表面效应,纳米氧化制备方法原理晶粒度/nm特点转化率高,选择性好,锡具有特殊的光电性能和气敏性能,这使得其在气敏将几种物质分别研能耗低,污染小,且有磨,混合后,再充分元件,半导体元件,电极材料及太阳能电池等方面有固相合成法[2]研磨得到前驱体,最4.2宽敞稳健的优化平台进行工艺操作。但研磨后加热分解的纳米着潜在的应用。因此,研究制备SnO2的方法成
6、了当过程中易引入杂质,且氧化锡粉末粒度分布不均匀前研究的热点之一。颗粒尺寸均一,可控性以易溶的无机盐(醇高,比表面积大,烧结溶胶–凝盐)经水解制得溶胶1纳米SnO10~100温度低,但颗粒极易团2粉体的制备胶法并凝胶化,最后焙烧聚。此法也用于制备氧制得氧化锡粉末化锡薄膜目前关于纳米SnO2粉体的制备,主要有下述几以水等流体为反应晶体发育完整,粒度[3]介质,在超临界流体小,且无需高温热处种方法。各种制备方法及其特点如表1所示。水热法5状态下制得氧化锡理,颗粒分散性好;但液粉末产出率不高相2SnO2薄膜的
7、制备法在水溶液中,使沉淀操作简单,但易引入杂剂与溶液中多种阳质,难以得到分布均匀共沉淀法离子生成均一的混>50薄膜材料由于在一致性,小型化,集成化和智能的粉体;且粒子处于非合沉淀,然后热分解稳定状态,易团聚长大得到氧化锡粉体化等方面的优势,使得国内外对于薄膜的研制开发给无需复杂仪器与技术,利用微乳液滴中的予了极大的重视。氧化锡薄膜是一种透明度很高的薄[4]微粒单分散性好,能可微乳液法化学反应,生成固体20~40控成核生长。但过程较膜,其独特的性能使得它在许多领域得到了广泛的应颗粒,制得超微粒子为繁琐收稿
8、日期:2004-02-24修回日期:2004-04-14基金项目:国家自然科学基金资助项目(20207002)作者简介:朱路平(1977–),男,湖北咸宁人,硕士研究生,主要从事纳米材料的制备与应用研究。Tel:(027)67861185;E-mail:zhuluping8080@yahoo.com.cn。第9期35朱路平等:纳米氧化锡制备方法的研究进展2.1化学气相沉积法(CVD--ChemicalVapor2.3脉冲激光沉积法(Puls
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