黄瓜气雾栽培及关键技术

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1、黄瓜气雾栽培及关键技术黄瓜的设施栽培面积目前仅次于番茄，是重要的园艺蔬果作物。它属于浅根性作物，根系对氧气的要求较高，所以也是一种较适合气雾栽培管理的品种。黄瓜根冠比小一般为1/8,所以容易根系早衰，只适宜短期多茬栽培，在温室条件卜•一年町栽培三茬。气雾栽培黄瓜一般选择温室胡种,具耐高温•耐低温特性,而且故好是雌性型品种，减少人工授粉用工。黄瓜育苗有条件的采用气雾育苗法，可直接移栽无缓苗现象，也可以用珍珠岩基质育苗，待长至3片真叶时移栽。为了提高抗性缩矩育苗期少促进不定根的大量形成，也町以用快繁育苗及种子苗的

2、断根育苗。如种了育苗一般低温室35天，高温期16-25天，用茎蔓快繁只需5-7天。黄瓜营养液配方采用H本通用园试配方，般育苗期至开化前采用1个剂戢培育，相当于约EC值1.4ms/cm浓度，开花后可调至1・5剂量（EC值大约为2・Oms/cm）,至第二条瓜开始膨大时，营养液浓度可以捉高至2.0剂量的水平（EC值大约为2.6ms/cm）,直至最后收获完毕。黄瓜生长后期容易出现P与K缺乏症，可以适当进行叶血补充。黄瓜适应的P1I值范围较广，在4.5-7.5Z间，如营养液配方无误，配制方法得当，养液的PH值一般无需进

3、行调节.黄瓜与其它瓜果相比，喜欢环境适当高温（25-30度）高湿，如环境空气过于干燥，因其蒸发量大较易出现生理萎蔦，严重时叶片焦枯。湿度35°C时达到光合作用补偿点，超过35°C时同化效率下降易形成苦味瓜。黃瓜属于屮等光强作物，光饱和点为55K1X,光补偿点为2K1X,黃瓜的日光合速率为双峰曲线,中午有明显的午体现象。色雾栽培水果黄瓜液温的管理也较为重要，特别是高温期的盛夏及低温期的冬季，作为设施调控栽培，冬季液温不宜低于15°C,夏日液温最好不要超过25°C。当然如冬季白沢温室超过18°C以下，对于低于15

4、°C的夜间液温有抵消作用。同样夏日把液温控在23°C以下，也可以抵消白天夏日高温所引起的生理障碍。但总体來说，气雾栽培对液温适应范围相对较宽,不象水培严格，与水培相比，气雾培的最适范用与制限范围都可以漂移5°C,黄瓜槽式雾培定植株距0・6米梯架雾培上梯血农种黄瓜梯架上层套种水果黄瓜其他黄瓜专用配方参考：日本黄瓜专用配方（me/L）A、基于山埼的改良配方（也适于甜瓜）：氮、磷、钾、钙、镁二13—3.5—5.7—7.0—2.6B、日木多木化学（液肥）企业开发：氮、磷、钾、钙、镁=13.1-4.4-5.3-5.7-

5、3.0S