DB35T 1268-2012 竹荪栽培技术规范

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1、ICS67.080B39DB35福建省地方标准DB35/T1268—2012竹荪栽培技术规范2012–07–23发布2012–10-20实施福建省质量技术监督局发布DB35/T1268—2012前言本标准按照GB/T1.1-2009《标准化工作导则第1部分：标准的结构和编写》给出的规则起草。本标准由福建省农业厅提出并归口。本标准由福建省质量技术监督局批准发布。本标准起草单位：顺昌县大利竹荪高新研究所、福建省食用菌行业协会、三明市真菌研究所、顺昌县质量技术监督局。本标准主要起草人：高允旺、羿红、上官舟建、叶舟、颜振兰、吕扬兰、黄茂富、何振辉

2、、王书忠。IDB35/T1268—2012竹荪栽培技术规范1范围本标准规定了竹荪栽培的术语与定义、菇场要求、原料要求、栽培季节、栽培工艺、病虫害防治、采收与加工等。本标准适用于棘托竹荪的人工栽培。长裙竹荪、红托竹荪、短裙竹荪的人工栽培也可参考本标准。2规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。GB2440尿素及其测定方法GB4285农药安全使用标准GB/T8321.1～.9农药合理使用准则GB9687食品包装用聚

3、乙烯成型品卫生标准GB/T12728-2006食用菌术语HG2940饲料级轻质碳酸钙NY5099无公害食品食用菌栽培基质安全技术要求NY5358无公害食品食用菌产地环境条件3术语和定义GB/T12728-2006界定的以及下列术语和定义适用于本标准。3.1棘托竹荪棘托竹荪（Dictyophoraechino-volvataZane,ZhengetHu）又称竹参、竹花、网纱菌、竹荪等，隶属于菌物界、担子菌门、伞菌纲、鬼笔目、鬼笔科。3.2生料栽培指原料未经发酵或灭菌处理直接用于栽培的模式。3.3发酵料栽培指原料经堆积发酵腐熟后才用于栽培的模

4、式。3.4原基尚未分化的原始子实体的组织团。（GB/T12728-2006，定义2.2.13）3.5菇蕾1DB35/T1268—2012由原基分化的有菌盖和菌柄的幼小子实体。（GB/T12728-2006，定义2.2.14）4菇场要求4.1产地环境应符合NY5358的要求。4.2田地要求选择适宜的水稻田、山地或果园。竹荪栽培田地不宜连作，宜间隔2年以上。5原料要求5.1竹荪栽培的原料可以采用毛竹屑（叶、片）、阔叶树屑（叶、枝）、农作物秸秆（芯、壳）等，应符合NY5099的要求。5.2尿素应符合GB2440的要求。5.3轻质碳酸钙应符合HG

5、2940的要求。5.4水可选用自然水（泉水、未受污染的河水和湖水、自来水），不可取用受到工矿企业、种养植业污染的水或治理未达标排放的水。水质应符合NY5099的要求。6栽培季节竹荪栽培宜安排在1～3月播种。各地应根据具体栽培品种特性，结合当地的地理气候条件安排生产。7菌种应使用具有菌种生产经营资质单位供应的菌种。不得使用来源和种性不明的菌种。8栽培工艺8.1生料栽培生料栽培按以下顺序进行：培养基制备→场地整畦→铺料播种→覆土遮荫→菌丝培养→出菇管理→采收。8.2发酵料栽培发酵料栽培按以下顺序进行：培养基制备→建堆发酵→场地整畦→铺料播种→

6、覆土遮荫→菌丝培养→出菇管理→采收。2DB35/T1268—20128.3技术要求8.3.1培养基制备8.3.1.1培养基推荐配方培养基推荐配方见表1。表1培养基推荐配方序号配方配方一竹屑80.0%，杂木屑18.8%，尿素0.7%，轻质碳酸钙0.5%。配方二竹屑98.8%，尿素0.7%，轻质碳酸钙0.5%。配方三竹屑60.0%，杂木屑28.8%，豆秆或芦苇草10.0%，尿素0.7%，轻质碳酸钙0.5%。注：采用生料栽培则不需加尿素和轻质碳酸钙。8.3.1.2备料2按培养基配方准备各项原料，用料量控制在（5000～7500）kg/666.7

7、m。8.3.1.3拌料将干燥的原材料混合拌匀，培养基含水量应控制在60%～65%。8.3.1.4建堆发酵采用发酵料栽培的，应在播种前45d～60d建堆。料堆高1.5m，长度不限。每隔15d翻堆一次，前后共翻3～4次。发酵时间为45d～60d。要求发酵后的堆料松软、变褐、有香味。8.3.2场地整畦要提前翻晒、消毒场地、平地整畦。畦田四周要有排水沟。适宜宽度为70cm～90cm，高度为10cm～20cm。8.3.3铺料2将培养基铺成龟背式菌床，料厚约20cm～25cm。培养基用量为l0kg～20kg/m（因材料而异）。8.3.4播种播种可采用

8、多种方法。宜采用“一”字型条播法，即将菌种掰成块状下播于料上，每平方米菌种用量为1.3～1.5袋（0.5kg/袋）。播种后表面再覆盖培养基1cm～2cm。8.3.5覆土遮荫播种后培养基表面覆盖