化工行业专题报告：中美贸易摩擦下，光刻胶国产化有望加速

《化工行业专题报告：中美贸易摩擦下，光刻胶国产化有望加速》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。

1、内容目录1、光刻胶是半导体、PCB、LCD等产业的重要的原料之一61.1、PCB光刻胶分为干膜、湿膜光刻胶与光成像阻焊油墨，湿膜性能优于干膜61.2、LCD光刻胶分为正性胶、彩色滤光片用光刻胶与触摸屏用光刻胶，前二者技术含量高91.3、半导体光刻胶经历数十年演变，短曝光波长、高分辨率技术出现112、光刻胶处于产业链上游，存在技术、客户及资金壁垒123、全球光刻胶寡头垄断，产能集中于欧美日等国家133.1、随PCB行业东移，PCB光刻胶生产企业实现转移143.2、受益大尺寸TFT-LCD发展，LCD光刻胶产量持续增长163.3、半导体光刻胶技术壁垒极高，制

2、程先进者占据更高份额184、国内光刻胶本土产量供不应求，高端领域尚在研发194.1、我国生产能力主要集中于中低端，高端依赖进口194.2、受益PCB行业东移，本土PCB光刻胶产量增长214.3、大尺寸TFT-LCD发展迅速，国产LCD光刻胶供不应求234.4、半导体光刻胶被给予重点关注，高性能产品处于研发阶段255、行业评级及重点推荐305.1、晶瑞股份305.2、飞凯材料325.3、南大光电335.4、容大感光355.5、上海新阳375.6、强力新材386、风险提示40图表目录图1：干膜光刻胶结构示意图7图2：干膜光刻胶照片7图3：湿膜光刻胶照片7图4

3、：印刷线路板制造过程中干膜光刻胶的应用示意8图5：光成像阻焊油墨原理9图6：TFT-LCD面板示意10图7：彩色滤光片结构示意图10图8：LCD彩色滤光片制作示意图11图9：半导体集成电路制作中光刻技术的应用11图10：光刻胶涉及产业链12图11：光刻胶市场规模（单位：亿美元）14图12：全球光刻胶龙头企业产能占比14图13：全球光刻胶应用结构14图14：全球PCB行业总产值及增长率（单位：亿美元）15图15：PCB行业成本构成16图16：2014-2019年全球大尺寸TFT-LCD面板出货面积及增速17图17：半导体光刻胶龙头企业市场份额占比18图18

4、：各种类半导体光刻胶市场份额占比18图19：半导体集成电路销售额19图20：全球半导体光刻胶需求及增速19图21：我国光刻胶产量情况19图22：国内光刻胶需求情况20图23：国内光刻胶市场规模20图24：中国大陆光刻胶应用结构21图25：国内光刻胶均价走势（单位：万元/吨）21图26：全球PCB产值分布（单位：亿美元）22图27：全球和中国大陆PCB产值及增速（单位：亿美元）22图28：2018年全球不同用途大尺寸TFT-LCD出货面积（单位：百万平方米）23图29：国内不同种类LCD出货量24图30：国内不同屏幕尺寸液晶电视机产量（单位：百万台）24图

5、31：2017年全球各地区半导体光刻胶市场份额占比26图32：我国集成电路产业市场规模及增速27图33：我国集成电路进出口金额及贸易逆差27图34：大基金一期产业链各部分投资占比29图35：晶瑞股份主营业务收入构成及增速30图36：晶瑞股份归母净利润及增速30图37：晶瑞股份主营业务毛利率31图38：飞凯材料主营业务收入构成及增速32图39：飞凯材料归母净利润及增速32图40：飞凯材料主营业务毛利率33图41：南大光电主营业务收入构成及增速34图42：南大光电归母净利润及增速34图43：南大光电主营业务毛利率34图44：容大感光主营业务收入构成及增速36

6、图45：容大感光归母净利润及增速36图46：容大感光主营业务毛利率36图47：上海新阳主营业务收入构成及增速37图48：上海新阳归母净利润及增速37图49：强力新材主营业务收入构成及增速38图50：强力新材归母净利润及增速38表1：光刻胶类别及品种6表2：干湿膜光刻胶对比8表3：不同种类的半导体光刻胶12表4：光刻胶技术参数13表5：PCB光刻胶主要供应商及市占率15表6：LCD光刻胶主要供应商及市占率16表7：TN/STN/TFT型液晶显示器比较19表8：光刻胶行业相关政策21表9：内资企业PCB光刻胶产能规模22表10：国内LCD光刻胶产能23表11

7、：2018年国内面板厂商产能规划情况25表12：国内半导体光刻胶生产厂家及现状26表13：我国集成电路产业相关政策27表14：大基金已投资标的291、光刻胶是半导体、PCB、LCD等产业的重要的原料之一当前中美贸易摩擦持续，美方试图通过关税、禁运等途径对我国关键材料进行封锁、制约我国半导体及相关产业发展，因此，我国必须快速推进半导体产业及关键材料、设备的国产化率，避免对产业链造成重创。而光刻胶是印刷线路板（PCB）、液晶显示屏（LCD）与半导体产业链的上游关键用品，具有举足轻重的地位。光刻胶是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加

8、工基片上的图形转移介质，由树脂、光引发剂、单体、溶剂等主要化学品成分和其他助剂组