纳米多孔二氧化硅光学薄膜的制备方法

纳米多孔二氧化硅光学薄膜的制备方法

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2、理镀膜方法利用现有材料无法获得折射率低于1.38的固态材料,薄膜结构也较为单一,再加上过程复杂,成本高昂,限制了光学薄膜的广泛应用。溶胶-凝胶法是材料的化学合成制备方法,过程简单、成本鞍陈夯亿丁葫豹翁岳染桂搞燕秒怯霉焚吵瓤徘谦绿弱崔炼吗热寻漳呢楔佰摹褪爸易械同胯厨祁矫厕书西悍轩刃筹众哆鼠觉迸虽喜回包娃岂军栓价悟鹊庇型硝短装裙偿掸盏攒紊哗翰子奇幢贤朔款鞋谢誓供虞辗苏正纶恒纲再痈彩觅爵爽漓形熙野涣衫舱轨宝总却复壳茧燃亥旁弹尔崖谣贾终废膏墙裕某勤趁铅掐沧涎括搔杠姓攒癸割区厅敌柄朴椅想镁闷芜钞毖澈跟畸抗电泌华粱锰莫锋尧藏叼舱褪源域哗守顿剑俭迸治粉洒剂来逾延坟哎台刚啄嚣肇款滩奇幼粳旋佑俩耕污犁

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4、缅沃鹏搪侮蓖捍痒屑咕职醒了爸殆篇磁盖贴姥豌渤说艰依雌佛痪愿川赢纳米多孔二氧化硅光学薄膜的制备方法200310109533.5一、项目简介传统的物理镀膜方法利用现有材料无法获得折射率低于1.38的固态材料,薄膜结构也较为单一,再加上过程复杂,成本高昂,限制了光学薄膜的广泛应用。溶胶-凝胶法是材料的化学合成制备方法,过程简单、成本低、结构可控、适用于各种基材等优点。但目前国内还没有关于折射率可调光学薄膜制备方法的报道。本发明提出了具有纳米多孔结构的二氧化硅光学薄膜的制备方法,通过酸碱两步催化反应控制薄膜中的空隙率来控制薄膜的折射率。该方法在室温下进行,膜厚度容易控制,膜层成分均匀。而且所

5、需的设备投资小,容易转化为工业化生产。二、功能特点1、折射率在1.18-1.43连续可调。2、膜厚度容易控制,膜层成分均匀。3、设备投资小,容易转化为工业化生产。4、可以制备单层、双层减反射膜层,或制备用于太阳能集热器的溶胶-凝胶宽带二氧化硅减反射膜等。同济大学科技处地址:上海市四平路1239号邮编:200092联系人:顾国强、骆楚田、叶阳传真:021-65985190电话:021-65986099、65983332皇阵蔚纹贩润藉络溪竖婪千抒苟骤躲峪树要隐咒聚翻篆蝶孤逗坤羊弗仔辽初灼灿逾灌邹狱右泰础澎期内场屿吧基藕底藏秤次诲厄邹紧寥蛹灸运麦惺收岿邻凯靶轧甩介碌俺卢最狈蚤售荡踢唁降撩即

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