软刻蚀复制技术制作聚合物微透镜阵列

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1、+半导体光电,!""’年)月第!+卷增刊赵!悦等%!软刻蚀复制技术制作聚合物微透镜阵列""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""软刻蚀复制技术制作聚合物微透镜阵列赵!悦%!赖建军%!史锡婷%!易新建%!张!坤!"DE华中科技大学光电子工程系#湖北武汉O$""WO$!E重庆光电技术研究所#重庆O"""L"%摘!要!!介绍了利用软刻蚀紫外模塑技术制作复制聚合物折射和衍射微透镜阵列的工艺过程!实验过程和测试结果表明"聚二甲基硅氧烷#K@:6$模具可以完好地将母版上的微透镜阵

2、列复制到硅或玻璃材料上的光敏胶上"并可多次使用"且母版无损伤!此技术具有速度快"工艺简单的特点"可用于微透镜与图像传感器的单片集成!关键词!!微透镜!聚合物!紫外模塑!软刻蚀中图分类号!45!’!文献标识码!.!文章编号!%""%$’*+*"!""’#6$"%%%$"#’)1;>,./&-.)1,59=..4;X4A.&-4*,+A;%)2*J&*()7.4M(&-I,M1&-4*&)5/,*()+%$J.87

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6、于软刻蚀技术的紫外模塑工艺制作微透&)’&#’&’’的光刻热熔成形(束能直写(灰度等级掩模等&2’&*’镜的方法受到了重视)软刻蚀是!"世纪"年&+’方法$制作衍射微透镜的方法有二元光学方法等$代由哈佛大学的/M

7、蚀的标准工艺还是直写等特种加无任何伤害)采用软光刻技术可以轻易得到)",-工技术$普遍存在需要昂贵设备$制作周期长的缺至%级的微小结构$此外还可在曲面上制造复杂"-点)这使得这些技术的应用不得不局限在实验室$的三维结构)我们将软刻蚀技术中的紫外模塑技无法通过工业商品化迈向市场)因此发展复制技术&’术用于聚合物微透镜阵列与可见光[[@芯片的成为降低微光学器件成本(推广应用的关键)采用集成$显示了这种方法的可行性)这种方法原理上收稿日期!!""#$%%$!!&!也可以用于红外[[@芯片的集成$特别是用于制作*%%%*%F/8<

8、3@GH<:3I3’:3FJF<:I3@8<%!K)1E!L%0MM1,>,5*/4.-(!""N""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""衍射微透镜!具有工艺简单"无需多次套刻对准的优能良好!无毒且低温特性好#我们在实验中使用势#