基于移动掩模技术的微透镜阵列的制作及其面形控制.pdf

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时间:2020-03-20

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1、分类号:]塑Qi:ZUDC:620密数:可公开编号基于移动掩模技术的微透镜阵列的制作及其面形控制ResearchonFabricationandtheControllingofProfilesofMicrolensArraybasedonMovingMaskTechnology学位授予单位技代码:筮叠鲤王盔堂!!Q!盟2学科々业名称厦代峭:堂芏=E摧!Q8():j!”冗玎『q:挫i!堂堂地盛丛』捏!重用Lf请学位级别:塑.£丰}}导救帅:童堡塑煎篮研究,+:韭自【坐长春理工大学硕士学位论文原创性声明本人郑重声明:所呈交的硕

2、士学位论文.《基于移动掩模技术的微透镜阵列的制作及其面形控制》是本人在指导教师的指导下.独立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体己经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。作者签名№/埤?月佃R长春理工大学学位论文版权使用授权书本学位论文作者及指导教师完全了解“长春理工大学硕士、博士学位论文版权使用规定”,同意长春理工大学保留并向中国科学信息研究所、中国优秀博硕士学位论文全文数据库和CN

3、K[系列数据库及其它国家有关部门或机构送交学位论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借阅。本人授权长春理工大学可以将本学位论文的全部或部分内容编八有关数据库进行检索,也可采用髟印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编学位论文。作者签名:孙红牟21乜年三月监R导师箍名丝年—三月二兰FI摘要微透镜阵列在光束整形、j匕束准直等方面有着非常重要的作用,制作微透镜阵列的方法也有多种。本文针对柱面微透镜阵列的制作,在研究掩模移动光刻原理及方法的基础上.研究了数字掩模的理论及作用.并设计了用于制作柱面微透镜阵列的数字掩模,采用数字移动掩模光刻

4、法制作柱面微透镜阵列,分析了光刻工艺中影响微透镜阵列面形的因素,通过选择曝光时间、显影液浓度、显影液温度和显影时间,来对微透镜阵列的面形进行控制。制作出面形较为理想的柱面微透镜阵列,单个微透镜的矢高为517um,曲率半径为6295um,焦距为11445¨m。研究结果表明,在移动掩模光刻法中,数字掩模适于连续面形的微透镜阵列的制作。在移动掩模光刻过程中,工件台移动的直线性、定位精度、丝杠的位移传动都会影响微透镜阵列的面形;在光刻工艺中,曝光时间、显影时间、显影液浓度和显影液温度也会影响微透镜阵列的面形。关键词:光刻技术数字移

5、动掩模柱面微透镜阵列面形控制AbstractMicro-lensarrayplaysaveryimportantroleinbeamshaping,beamcollimation,andsoonTherearemanywaysofmakingmicro—lensarraysFocusingonproductionofcylindricalmicro-lensarray,onthebasisofprinciplesandmethodsofmovingmasklithography,weresearchedthetheorya

6、ndfunctionofdigitalmasksanddesignedthedigitalmasksofcylindricalmicro·lensarray.WeusethedigitalmovingmaskphotolithographymethodtomakecylinderandanalysisedtheInfluencefactorsfortheshapeofmicro—lensarrayinphotoIithographyprocess,byselectingtheexposuretime,developerco

7、ncentration,developertemperature,developertime,controloverthesurfaceofmicro—lensarray,Theresultshowsthatthecylindricalmicro—lensarray’sparameteris:asinglemicro-lensaperturewidthof494pm,y—shapehigh517gm,radiusofcurvatureis6295pm,focallengthforll445umStudyresultssho

8、wthatinthemethodofmovingmasklithography,digitalmasksuitableforfabricationofcontinuoussurfacemicro-lensarrayIntheprocessofmovingmasklithography,thework-p

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