MASK工艺介绍

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1、苏州美精微光电有限公司光掩膜版（PHOTOMASK）知识介绍(COLINFONG)第1页共11页光掩膜版知识介绍一、光掩膜版概述二、光掩膜版的类别和工作原理三、专业原理、术语及简称四、工艺和设备五、菲林一、光掩膜版概述在人类制版工业历史上，掩膜版（光罩/底片）作为图形和文字转移的一个重要媒介，广泛应用于出版印刷、电子线路、玻璃印花、印染、陶瓷上花等行业，尤其在不断发展的电子、微电子行业，随着技术、工艺的进步，掩膜技术也一步步由普通光学聚酯底片发展到可以胜任微米级要求的高精度的铬版掩膜等，并进一步向亚微米级发展。二、光掩膜版的类别和工作原理1、光绘聚

2、酯底片（filmMask）1）聚酯底片俗称菲林，由基片（聚酯PET片材）、感光乳胶层和保护膜构成。保护膜层（1um）感光乳胶层（5~8um）基片（100~185um）2）具有有效波长的光波对感光乳胶层曝光时，发生光化学作用，构成具体图形的潜像，经显影、定影之后，形成稳定卤化银图形。3）技术参数聚酯底片按照其厚度分为两种，一种是4mil厚菲林（薄菲林），一种是7mil厚菲林（厚菲林）。按照激光光绘精度的不同，聚酯底片一般能做到30um左右的最小线宽。在电子行业中主要使用于一般的印刷线路板和要求较低的LCD产品。目前在市场中使用的主要有KODAK、AG

3、FA、FUJI、KONICA、DUPONT及华光等公司的产品。4）光绘菲林检验方法及注意事项：①在垂直日光灯（30W）目检台上通过透射光检验光绘菲林的组合及图形；②在侧视灯光（18W-30W日光）条件下，双手拿菲林同一边上两角竖放菲林通过透射光检验菲林的划伤、短路、断路、脏污、黑线、黑点、针孔等缺陷。③总长尺寸及线条线缝的尺寸应在专用检验设备上进行。④注意：检验时手戴乳胶手套或乳胶指套；菲林若未贴保护膜则禁止放在任何平台上；套全检查或放于目检台上时均要贴保护膜；拿取菲林时要注意避免弯曲磨擦造成折痕或划伤；保持良好习惯，不许留长指甲。5）常见问题的处

4、理：PDFcreatedwithpdfFactorytrialversionwww.pdffactory.com苏州美精微光电有限公司光掩膜版（PHOTOMASK）知识介绍(COLINFONG)第2页共11页①图形区的针孔形成的原因较多，如基片自身、机器内颗粒、显影或定影液自身或配比等，它可以通过菲林笔或红胆进行修补，菲林笔价格低但不耐丙酮等试剂的擦拭；红胆可耐丙酮擦拭但其修补处会有凸起（一般不影响曝光）且价格较贵。②脏污可能是冲片清洗过程留下的水迹或是低胶保护膜留下的残胶，一般可以用乙醇擦拭去除。③菲林划伤也是常见问题，产生的原因较多，一般图形内

5、的划伤会影响最终产品的品质，图形区外或框点划伤一般不会对最终产品造成影响。2.铬版掩膜版（ChromeMask）1)铬版掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版由玻璃基片、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。光刻胶层（0.6-1um）氧化铬层（0.075um）铬层（0.075um）玻璃（3-5mm）2)当有效波长作用到光刻胶上，发生化学反应，再经过显影之后，曝光部分的光刻胶层会被分解、脱掉、直接显露出下层的铬层（阻挡光层），形成具体图形。3)铬版掩膜的应用目前铬版掩膜版在电子行业中主要应用于STN-LCD、TFT-LCD、PDP、以及PCB产业

6、BGA、FPC、HDI等产品。4)匀胶铬版制作工艺流程a．切割（将玻璃，主要是平整度较好的钠钙玻璃、硼硅玻璃、石英玻璃按产品要求↓切割成块）b．磨边（将玻璃边缘打磨，使边缘平直）↓c．倒角（将锋利的边角打磨，钝化，减少伤害）↓d．研磨（提高平整度）↓平整度:在500mm的长度内,发生起伏30um的高度值)e．抛光（提高光洁度，使光学透射性良好↓f．检查（检查参数：尺寸:±0.5mm误差厚度:±0.2mm误差↓垂直度:1/1000mm(500mmX500mm)平整度:≤30umg．超声清洗（去除杂质及污物）↓h．镀铬（有两种方法：溅射和蒸发）PDFc

7、reatedwithpdfFactorytrialversionwww.pdffactory.com苏州美精微光电有限公司光掩膜版（PHOTOMASK）知识介绍(COLINFONG)第3页共11页↓i．检查（检查参数:光学密度(OD)Opticsdensity:≥3(λ=436nm)反射率<5%↓厚度平整度:2~5um平整度:≤30um）j．清洗（去除尘埃与杂质）k．涂胶（将光刻胶涂于铬层上层）↓l．检查（检查参数）↓膜厚:0.1-0.15um±100nm针孔:A、B、C、D四个级别m．包装5)铬版掩膜版（图形）制作a.CAD（ComputerAi

8、dedDesign）↓b.CAM（ComputerAidedManufacture）↓c.光刻（将处理好的图形数据文件传递