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时间:2019-05-16
《Sn及SnPb薄膜表面锡须生长研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、中文摘要采用Blech结构,利用掩膜及磁控溅射方法,在玻璃基底上分别制备了纯Sn和SnPb合金条状薄膜。测试样品放置在室温环境中,加载电流长度为170gm、250gm、450岫,加载电流密度分别为6×103A/cm2,1.2×l04A/cm2,2×104A/cm2,利用电迁移理论研究了不同的电流密度和加载电流长度对纯Sn和SnPb薄膜质量输运过程的影响。实验中发现,电流密度对样品内部的质量输运过程影响很大,在电流密度为6x103A/cm2时,长时间加载电流,两种薄膜样品的阴极和阳极基本没有变化。对于纯S
2、n薄膜,电流密度1.2×104A/cm2是一个锡须生长的适宜条件,样品温度40oC,也是锡须牛长的适宜温度。在上述条件下,纯Sn薄膜的阳极出现了大量细丝状锡须,阴极出现了明显的空穴消耗区。SnPb薄膜由于Pb的添加,改变了薄膜的内部和表面结构,在阳极出现了大量的小丘状凸起。电流密度2x104A/cm2条件下,由于电流聚集效应和焦耳热效应的影响,两种样品的阳极都出现了熔化的现象。不同于纯Sn薄膜的是,SnPb薄膜在此电流密度下,经过35h样品表面出现了明显的三区分层:空穴消耗区,富Sn区和富Pb区。这是由
3、不同元素的电迁移率不同造成的。采用溅射方法在Cu和玻璃基底分别镀了一层厚度为1gm的纯Sn薄膜,放置在自然环境中。经过一段时间,以Cu为基底的试样表而有明显的锡须生长现象,而玻璃基底表面没有发现锡须生长。Cu基底试样表面锡须生长的驱动力来源于Cu向Sn层中的扩散导致的界面和晶界处金属间化合物的形成。实验过程中玻璃基底表面出现了两种颜色不同的Sn薄膜,经过分析得出:两种Sn薄膜结构不同。黑灰色薄膜表面锡须生长迅速,而灰向色薄膜表面没有锡须生长。可以认为黑灰色薄膜结构中存在(101)晶面,有利于锡须生长。关
4、键词:锡须,磁控溅射,电迁移,自发生长ABSTRACTSnandSnPbstrips,0.8Ⅲminthickness,weresputteredontheglasssubstrate,usingBlechstructureandmasks.Thesampleswereplacedatroomtemperature.Theeffectivelengthofcurrentstresswere170pm。250Ⅲ11and450lain,andthecurrentdensitieswere6×103A/cm
5、2,1.2x104A/cm2and2x104A/cm2,respectively.Theeffectofdifferentcurrentdensitiesanddifferenteffectivelen舀hsOilthemassmigrationwasstudiedusingelectromigrationmethod.Itwasfoundthatcurrentdensitieshadagreatinfluenceonthemassmigration.Bothanodeandcathodesideswe
6、realmostunchangedofthetwOsamplesafterstressingatthecurrentdensityof6x103A/cm2.ForthepureSnthinfilm.1.2x104A/cm2wasasuitableconditionforthegrowthoftinwhiskers.Thetemperatureofthesamplesofabout40oCwasalsothesuitabletemperatureforthegrowthoftinwhiskers.Thet
7、inwhiskersgrewattheanodeside,andvoidswereobservedatthecathodesideofthepureSnfilm.BecauseoftheadditionofPb,alargenumberofhillock—typewhiskerswereformedonthesurfaceofSnPbfilmwhichisdifferentfromthepureSnfilm.Whenstressedat2x104A/cm2,duetocurrentcrowdingand
8、Jouleheateffect,thefilmsmeltedattheanodeside.ButsignificantlydifferentfrompureSnfilm,after35h,SnPbfilmexistedthreelayers:voids,Sn-richandPb—rich.Itisobviouslythatdifferentelementshaddifferentmassmigrationrate.PureSnfilms,w
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