镍钨合金电沉积的电流效率和镀层显微硬度

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1、1999年9月电镀与涂饰第18卷第3期·1·文章编号:1004-227X(1999)03-0001-04镍钨合金电沉积的电流效率和镀层显微硬度杨防祖,曹刚敏,郑雪清,许书楷,周绍民(厦门大学化学系物理化学研究所,福建厦门361005)CurrentEfficiencyandDepositMicrohardnessofNickel-TungstenAlloyElectrodepositionYANGFang-zu,CAOGang-min,ZHENGXue-qing,XUShu-kai,ZHOUShao-min

2、摘要:通过调节镀液中不同的Ni/W比例、温度和沉积电流密度,研究在焦磷酸盐体系中镍钨合金电沉积的电流效率、沉积层组成和显微硬度。实验结果表明:合金共沉积的电流效率不高。为了尽量提高合金的沉积电流效率,主要途径宜增大镀液中硫酸镍和钨酸钠的浓度;提高合金沉积电流密度,降低镀液中[Ni]/[W]比例,则镀层中的钨含量增大;合金沉积层的显微硬度随镀层中的W含量提高而增大。关键词:镍钨合金;电沉积层;电流效率;显微硬度Abstract:Currentefficiency,depositcompositionandmi

3、crohardnessofnickel-tungstenalloyelectrodeposi-tioninpyrophosphorusbathwerestudiedbyadjustingNi/Wratioinplatingsolution,temperatureanddeposi-tioncurrentdensity.Theresultsshowedthatthecurrentefficiencyofthealloycodepositionwasnothigh.Forthepurposetoraisecur

4、rentefficiencyasfaraspossiblethesuitablesolutionwastoincreasetheconcentrationofnickelsulfateandsodiumtungstateinthebath,Tungstencontentinthealloydepositcanbeincreasedbyrais-ingelectrodepositioncurrentdensityanddecreasing[Ni]/[W]ratiointheplatingsolution.Th

5、emicrohardnessofthealloydepositincreaseswiththeraiseoftungstencontentinthedeposit.Keywords:nickel-tungstenalloy;electrodeposit;currentefficiency;microhardness水溶液中钨不能单独电沉积而可以与在镍钨合金电沉积过程中,伴随着阴极镍以Ni-W合金形式一起共沉积。Ni-W析氢和阳极析氧以及表面活性添加剂的消合金电沉积层可以在某些耐磨、耐热和耐蚀耗,沉积电流效率

6、的高低与电能的有效利等环境中应用。在合适的镍钨合金镀液组用、镀液稳定和镀层质量密切相关,沉积层成和沉积条件下,加入含硼或含磷物质,可的组成、晶体结构和金相组织则是其性能的电沉积出性能更加优异的Ni-W-B(P)合内在基本因素。本文通过调节镀液中不同[1~4]的Ni/W比例、温度和沉积电流密度,探索在金代铬镀层。Ni-W合金电沉积已有许多报道[5~9]。焦磷酸盐体系中Ni-W合金电沉积的电流效率、沉积层组成和显微硬度。收稿日期:1999-04-20基金项目:国家自然科学基金资助项目(29773039)·2·S

7、ep.1999Electroplating&FinishingVol.18No.3Ni-W合金电沉积的电流效率η:1实验条件W%·ΔG/EWNi%·ΔG/ENiη=ηW+ηNi=+I·tI·t式中:ηW、ηNi—W和Ni的分电流效率镀液组成(g/L)和沉积条件:NiSO4·6H2OEW、ENi—W和Ni的电化当量,分别为15,Na2WO4·2H2O50,K4P2O7·3H2O250,-30.304×10g/C和0.318×(NH4)2HPO430,添加剂20ml/L。用化学纯-310g/C试剂和蒸馏水配制溶

8、液,沉积条件:55℃,用ΔG—镀层重量,g氨水调节镀液pH8.5,阳极为纯镍片,阴极W%、Ni%—镀层中W和Ni的重量百为单面用过氯乙烯胶绝缘的紫铜片(99.99%),工作面积为1.0×2.5cm2,镀液分含量I、t—分别为沉积电流(A)和时间s用磁力加热搅拌器中速搅拌,沉积电流密度2(A/dm)分别为:1.0、2.0、4.0,8.0和12.0;2结果与讨论沉积时间(min)相应为:150,120,90,60和5

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