linh络合物及la基合金的储氢性能与改性研究

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1、Li.N.H络合物及La基合金的储氢性能与改性研究摘要本文的主要内容是通过XRD和PCT等材料分析方法,系统地研究了添加剂对Li-N州体系储氢材料的吸放氢性能的影响规律。通过恒电流充放电及循坏伏安等电化学测试技术,研究了Ti含量对LaNi。Co。.7A1。.。合金电极及Ce含量对L她7Mgo.3Ni:.5Coo.。合金电极的综合电化学性能影响。一、通过球磨方法制备Li_N-H络合氢化物,利用XRD和PCT等材料分析方法,系统地研究了添加剂对Li_N-H体系储氢材料的吸放氢性能的影响规律。结果表明:B可有效降低可逆吸放氢温度和吸放氢的平台压,而C的添加使吸放氢平台压有

2、所提高;B、C复合添加能有效提高吸放氢性能的稳定性和动力学性能;适当增加球磨时间,有利提高可逆吸放氢量。二、对在Ar气保护下,电弧熔炼炉熔炼得到的AB。型La。一Ji烈iICo。.7Al。.。(F0,0.1,O.2,O.3)系列合金,通过恒电流充放电及循坏伏安等电化学测试技术,研究了Ti含量对LaNi,Co。.7A1。.。合金电极的综合电化学性能影响。XRD分析结果可知:合金的主相是LaNi。相。电化学性能测试表明:随着Ti含量的增加,系列合金的放电容量逐渐减小;合金的放电容量的衰减率依次减少,虽然合金的循环稳定性得到提高,但是合金电极放电平台有所下降。I三、对在A

3、r气保护下,电弧熔炼炉熔炼和混合烧结得到的AB。型L乩_e瑚go.抖i。.5Co。.。(x---O.1,0.2,0.3,0.4)系列合金,通过恒电流充放电及循坏伏安等电化学测试技术,研究了Ce含量对Lao.,Mg。.3Ni。.,Co。.。合金电极的综合电化学性能影响。电化学性能测试结果表明:所有合金中x=O样品的放电容量最大且为155.45mAh/g;x=O.2样品的放电容量的衰减率最大且为35.54%,衰减率先随Ce含量的增大而增加到最大而后减少。关键词:储氢性能:电化学性能:贮氢合金:‘Li-N-H络合氢化物nRESEARCHOFMODIFICATIONANDH

4、YDRoGENSToRAGEPRoPEI汀YONLI.N.HCoMPLEXANDLA.BASEDALLOYSABSTRACTThemaincontentsofthethesisare:theinfluenceofcatalystsontheLi-N—Hhydrogenstoragematerialswasstudiedusingx-raydiffractionandP-C-Ttest;theeffectsofpartialsubstitutiononalloyswasinvestigatedsystematicallybymeansofelectrochemical

5、test.1.Li-N—Hcomplexhydrideswerepreparedbymechanicalalloying.ThehydrogenstoragepropertiesandthemicrostructuresoftheLi-N-Hhydrogenstoragematerialswithcatalystwerestudied.TheP—C-Ttestresultsshowthatreversiblehydrogenabsorption/desorptiontemperatureandplateaupressuredecreasedeffectivelywi

6、thBadded,plateaupressureincreasedwithCadded,thestabilityofhydrogenabsorption/desorptionandkineticpropertiescanbeimprovedbyaddingBandC.Thereversiblehydrogenabsorption/desorptioncapacityCaBalsobeimprovedwithmilledtime.2.ThemicrostructureandtheelectrochemicalpropertiesofLalo埘i4Coo.TAlo.3(

7、x---0,0.1,0.2,03)alloyswereinvestigatedsystematically.Lal.xTkNi4Coo.TAloz(x=0,O.1,O·2,O.3)alloyswerepreparedinarc-meltingfurnaceatargonatmosphere.XRDtestresultsshowthatLatJijNi4Coo.TAl03(x--0,O.1,0.2,O.3)alloysconsistmainlyofLaNisphase.Theresultsofelectrochemicaltestanalysisshowthatd

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