欢迎来到天天文库
浏览记录
ID:33516823
大小:7.28 MB
页数:62页
时间:2019-02-26
《与dmd相匹配的数字光刻光学系统设计研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、分类号:UDC:密级:学校代号:11845学号:2111115022广东工业大学硕士学位论文(工学硕士)与DMD相匹配的数字光刻光学系统设计研究刘海勇指导教师姓名、职称:周金运教授学科(专业)或领域名称:物理电王堂学生所属学院:物理当光电工程堂院论文答辩日期:2Q!垒生昼目曼!目ADissertationSubmittedtoGuangdongUniversityofTechnologyfortheDegreeofMasterofEngineeringScienceResearchonDesignofOpticalSystemf
2、orDMDMatchingDigitalLithographyM.E.Candidate:LiuhaiYongSupervisor:Prof.JinyunZhouMay2014SchoolofPhysics&Opto—electronicEngineeringGuangdongUniversityofTechnologyGuangzhou,Guangdong,P.R.China,510006㈧∞㈣摘要数字光刻技术能影响到大面积印制电路板、TFT.LCD、微光学元器件、太阳能电板等高科技产业的产品质量和成本,最终影响到产品商业竞争
3、的成败,将成为这些产业可持续发展的支柱,因此数字光刻系统的研究和搭建显得非常重要和迫在眉睫,而与DMD相匹配的光学系统的研究是重中之重。本文从DMD的基本结构和性能出发,研究照明系统中的均匀性,投影物镜的优化和设计,提出大面积无光程差式中继光学系统方案,有利于数字光刻光学系统的设计和改进。针对目前市场上十微米左右光刻需求,设计了一套适合0.7XGADMD光刻物镜,其分辨率可达到3.99m,在充分考虑消除像差和削弱DMD黑栅效应的基础上,以钞成像系统为总体框架目标,用改良后的库克结构为初始点,分前后两组设计成双高斯对称形式,利用Z
4、EMAX成像设计工具,优化得到了像差和公差都在容限范围之内的缩微投影物镜。该物镜配合均匀性照明系统,月"匕e-,,4KH好地构造成数字光刻系统中的光学引擎,为数字光刻图片高质量地传输转印提供保障。光刻系统中除了分辨率是一项重要指标外,如今单次大面积光刻也是急需考虑和得以改善,为了提高数字光刻单次曝光面积,可以采用多块DMD拼接技术,由于DMD边界面积比较大,假若把多块DMD拼接在同一平面,会造成光刻基板大面积的损失。有必要提高多块DMD的填充效率(有效面积比),之前的双平行平面拼接方法,即让DMD交替拼接在相隔一定距离的平行平面
5、上,这样会导致大面积输出图形不同部位到达光刻物镜的光程不一致,会严重影响后续的成像质量,因此采用一种补偿光程差的中继系统,这种系统包括两组抛物面,其中一组含有多块抛物面反射镜且各自与DMD相匹配对应,另一组是一大块抛物面反射镜,这两组共焦点,能很好解决像差及光程差的问题,实现大面积光刻的目标。本文从基本理论、结构优化设计两大方向研究了数字光刻光学系统,分析了目前数字光刻存在的问题,并提出大面积数字光刻解决方案,为后续研究提供系统模型。关键词:数字光刻:匹配;投影物镜;光学设计;均匀广东工业大学硕士学位论文AbstractDigi
6、tallithographycaninfluenceproducts’qualityandcostofthehigh—technologyindustrysuchaslarge-areaprinted—circuitboard,TFT-LCD,micro-opticalcomponents,solarpanelsandSOon,asaresult,itwillbecomethepillarofsuchindustries’sustainabledevelopmentanddecidethefinalproductscommerc
7、ialcompetition’Ssuccessorfailure.Thusbuildingandresearchingthedigitallithographyisgettingimportantandimminent,andwhat’Smore,theopticalsystemwhichismatchingwithDMDbecomesthemostimportant.Thethesisresearchingtheuniformityofilluminationsystem,optimizationanddesignofthep
8、rojectionlens,andputtingforwardtheschemeofarelayopticalsystemforlarge-arealithographywithoutopticalpathdifference,whichisbasedonthe
此文档下载收益归作者所有