甲基磺酸无铅纯锡高速电镀添加剂研究

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1、甲基磺酸无铅纯锡高速电镀添加剂研究管勇‘,丁运虎1。周玉福2.毛祖国1,何杰1,马爱华(1.武汉材料保护研究所,湖北武汉430030;2.苏州隆孚表面工程有限公司,江苏苏州215000)【摘要】介绍了无铅化问题和高速电镀的发展状况。运用电化学和化学的方法开发了一种无铅纯锡高速电镀添加剂,有效地抑制了锡颓形成,并通过HullCell试验和电镀模拟试验确定了工艺:甲基磺酸200—2509/L,甲磺酸亚锡(Sn“)55—75∥L,无铅纯锡高速电镀添加剂40—80mI/L,温度45—55℃,Jc5—25A/din2。测试了镀液和镀

2、层的性能:该工艺镀液稳定性良好,分散能力和覆盖能力好,平均电流效率98.2%;镀层晶粒圆滑均匀(3—8p,m),舍碳量较低,附着强度好,无变色现象,可焊性符合J—STD一002BTestE和GB/T16745—1997要求.双85试验1000h后无锡须出现。【关键词】添加剂,可焊性,纯锡。【中图分类号]TQl53.1+3【文献标识码】A[文章编号】1001—1560(2006)09—0231一060前言0.1无铅化问题锡铅合金作为可焊性镀层在电子电气工业中已使用多年,如印刷电路板、电子、电气元件,半导体组件、IC引线框架等

3、。但随着近年来人们对健康和环境问题越来越重视,铅的危害性也逐渐为大众所了解。因而世界各国不断颁布日趋严格的法令来限制电子产品中铅的应用,这其中欧盟和日本都已经严格限制了铅的使用年限。因此,自20世纪90年代后期至今,国内外电镀工作者都在积极开发替代锡铅电镀的无铅电镀工艺。可能的替代工艺有:纯锡工艺,锡铜工艺,锡银工艺,锡铋工艺等。纯锡工艺具有镀层成分单一,与各种无铅焊料易于匹配,适用范围广等优点,且电镀液相对简单,有利于维护和管理,成本也较低,便于推广应用;国外知名公司也已推出了相关的高速电镀产品。并在电子行业得到普遍认可

4、⋯。因而我们进行了无铅纯锡高速电镀方面的研究,取得了一定的成果,并在生产中逐步得到应用。O.2高速电镀”1在集成电路及其它电子元器件的封装后处理工艺中,通常的电流密度为0.5—3A/dm2,沉积速度一般为0.2—0.8la,m/min,达到工艺要求的镀层厚度(一般是7—91J,m或9一tlp.m),电镀时间要几十分钟,加上各辅助工序的时间,电镀过程总用时一般超过1h。一随着电子信息技术的高速发展,电子元器件的需求量迅速增长,对电镀速度和电镀效率的要求日益提高,单靠挂镀或滚镀的电镀工艺已不能满足工业的需要,高速电镀新技术就是

5、适应这一发展而开发出来的。为了提高电子电镀产业的生产效率,20世纪末在国外出现了高速电镀工艺。高速电镀采用较高的电流密度,将塑封后的引线框架引入到高速电镀机中,在流动的镀液中将引脚镀上可焊性的锡铅合金镀层。通常的电流密度为10—20A/din2。沉积速度为0.1—0.15tLnds,电镀达到工艺要求厚度的时间为80—1208。近年来,随着可焊性镀层高速电镀技术的发展,电镀时间已经可以缩短为60s甚至40s。1试验1.1仪器HL一10ATM型HullCell试验仪(武汉材料保护研究所)DJH—D型电解式测厚仪(武汉材料保护研

6、究所)CHl660B电化学系统(上海辰华仪器有限公司)101—3型电热鼓风干燥箱(上海沪南科学仪材毽像辘No宝前。血潞u口皓璐口彗(81.警遵毽甲基磺酸无铅纯锡高速电镀添加剂研究器联营厂)GDS一100型高低温湿热试验箱(江苏安特稳试验设备有限公司)SAT一5100可焊性测试仪电子扫描电镜JSM一5510高速电镀模拟装置(自制)1.2主要药品甲磺酸亚锡[Sn(CH,SO,):]含sn2+约3009/L电子级甲基磺酸(CH3SO,H)70%水溶液,约9459/L电子级1.3试验方法1.3.1镀液性能试验方法[31用HullC

7、ell试验测定工艺参数影响;HullCell试验测定分散能力;HullCell试验测定覆盖能力;小槽模拟试验检验镀液稳定性;计时称重法测定阴极电流效率;动电位线性扫描法测量阴极极化曲线。1.3.2镀层性能检测方法扫描电镜观察镀层形貌;电子能谱测试镀层含碳量;弯曲和热震试验检测镀层附着强度;蒸汽试验检测镀层的抗变色性能;试验润湿天平法检测镀层可焊性;双85试验检测镀层抗锡须性能。昌2结果与分析导m2.1添加剂组成2.1.1分散剂镀层的均匀性取决于镀液的分散能力。对于结构复杂的镀锡电子元件,镀层的均匀性有严格的要求。因此镀液中

8、需加入某些特殊的分散剂,提高分散能力。这些分散剂主要含有EO、PO或同时含有EO和PO链接的酚类及其衍生物”o。2.1.2防烧焦剂纯锡工艺普遍存在电流密度范围窄,高电流密度区容易烧焦问题。因此必须在添加剂中引入防烧焦剂来拓宽电流密度范围,抑制高电流密度区的烧焦。防烧焦剂主要为含有EO、PO或同时含有EO

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