bms500b型超高真空磁控溅射设备技术方案

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1、BMS500B型超高真空磁控溅射设备技术方案一、MS500B型设备技术方案1、本设备的实验目的为用于制备半导体薄膜及金属及金属化合物薄膜，用于薄膜光电效应的研究。工作方式为单靶独立工作、双靶共溅射、三靶共溅射和四靶共溅射。2、设备的组成：由超高真空磁控溅射镀膜室、进样室、隔断阀门、送样机构、电源及控制系统和真空系统组成。镀膜室和进样室之间由GV100超高真空手动闸板阀隔断。3、磁控溅射镀膜室1个，3.1梨型溅射镀膜室1个，尺寸为Φ500㎜×450㎜，其上安装有：真空室大法兰盖1个。上大法兰盖有装有高温样品架接口法兰1个。底板上有4个靶法兰接口，用于安装4个Φ50（Φ2″）的磁控靶。下

2、面有CF200法兰接口1个用于连接真空系统和2个CF35真空测量法兰接口。前和左面2个方向各有1个CF100观察窗口和观察窗挡板。左侧有CF100进样法兰接口1个。有照明用电极法兰1个。CF16工作气体和干燥氮气充气口1个，由3路质量流量计和1路充气气路汇合到1个CF16超高真空截止阀。备用CF63、CF35法兰各2个。3.2真空获得与测量溅射镀膜室采用FB1200涡轮分子泵+2XZ-8机械泵，极限真空优于6.0×10-6Pa，系统漏率：≤1.3×10-8Pa·L/S，测量采用北京大学产DL-70数显复合真空计。3.3高温样品架组件：⑴基片尺寸：ф30mm。⑵基片加热温度：≥600℃

3、±1℃。⑶基片台相对磁控靶距离在50-100mm范围内可调,沿轴向移动。⑷基片可连续回转,0～30转/分。⑸设置样品挡板组件。⑹为避免其他地方过热，加热器隔热屏。43.4磁控靶:4个Φ2英寸磁控靶，靶射频和直流兼容。靶安装位置为在真空室下底板上做共溅射。3.5磁控靶挡板:每个磁控靶都有各自挡板，以防止在其不工作时靶材受到污染。3.6镀膜室采用外烘烤，设置室内照明。3.7充气气路：在镀膜室上有3路通过质量流量计的进气气路，实现进气控制，另外有1路充氮气气路。4路气体均通过1个CF16超高真空截止阀，向镀膜室进气。3.8镀膜电源：⑴射频电源2台，功率500W（北京微电子中心产品）。⑵直流

4、恒流源2台，功率500W（北京微电子中心产品）。4、进样及热处理室1个4.1进样及预处理室组件：真空室腔体尺寸：ф300×L480（mm），其上安装有：⑴FB600分子泵抽气接口法兰CF1501个⑵CF100与镀膜室隔离闸板阀接口法兰1个⑶CF63磁力样品传递机构接口法兰1个⑷CF35真空测量规管接口法兰2个⑸ф150活开门1个⑹CF16放气阀接口1个⑺CF35照明电极法兰口1个⑻ф100观察窗口1个。⑼CF63备用接口法兰1个。⑽CF35备用接口法兰1个。4.2真空获得与测量：采用FB600涡轮分子泵+2XZ-8机械泵，极限真空优于6.6×10-5Pa，系统漏率：≤1×10-6Pa

5、·L/S，测量采用北京大学产DL-70数显复合真空计。4.3样品库：每次装夹5片ф30样品。4.4磁力样品传递装置：L=900mm，在镀膜室不曝露大气条件下完成取送样品的要求5、机架1个6、设备控制：⑴供电：380V/50Hz三相五线制供电系统，有漏电保护。⑵配置2台国际标准电源柜，其上装有：总控制电源1台、DL-70复合真空计2台、样品架加热温控电源1台、样品架驱动电源1台、3路质量流量计1台、真空室照明电源1台、分子泵电源2台。⑶镀膜用射频电源和匹配器及直流电源在另外一个电源柜上。4一、MS500B型设备主要组成及报价1．真空获得与测量1．1镀膜室真空系统序号名称性能指标数量1.

6、1.1涡轮分子泵FB12001200L/s1台1.1.2机械泵2XZ-88L/s1台1.1.3闸板阀VAT型GV200，手动1台1.1.4抽气管道分子泵抽气管道1支1.1.5抽气管道波纹管抽气管道900㎜1支1.1.6数显复合真空计DL-701台1．2进样室真空系统1.2.1涡轮分子泵FB600600L/S1台1.2.2机械泵2XZ-81台1.2.3闸板阀VAT型GV150，手动1台1.2.4抽气管道波纹抽气管道1000mm1支1.2.5旁路抽气CF35高真空角阀1支旁抽管道组件1m1套旁抽电磁挡板阀1支1.2.6数显复合真空计DL-91台2．真空室系统2．1镀膜室2.1.1真空腔体

7、Φ500×H450圆柱体上开盖1Cr18Ni9Ti制造1支2.1.2磁控靶（小挡板）Φ50（Φ2″）靶可调整角度、做角度偏移；4个2.1.3样品架可调节距离和样品自转，样品最高加热温度600℃可控可调1台2.1.4观察窗CF1002块2.1.5观察窗手动挡板CF162个2.1.6陶封电极CF35四芯2块2.1.7照明24V300W1套42．2进样室2.2.1进样室Φ300×L480（mm）卧式前开门1台2.2.2闸板阀进样室与镀膜室隔离GV1001台2.2