真空磁控溅射设备用户手册

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1、真空磁控溅射镀膜控制系统用户手册目录1.系统简述41.1真空系统41.2传送系统41.3加热系统41.4溅射电源41.5冷却水41.6工艺气路52.系统供电52.1柜体通电前检查52.2现场设备通电前检查52.3电源送电顺序52.3.1PLC控制柜52.3.2电加热柜62.3.3泵组柜63.PLC运行程序63.1环境模式73.2工作模式73.3安全连锁93.4系统报警104.上位机软件操作124.1上位机画面124.1.1介绍124.1.1.1图例124.1.2总貌144.1.3真空154.1.

2、4传动174.1.5加热194.1.6参数设定214.1.7溅射电源234.1.8控制模式254.1.9分子泵使能操作274.1.10历史报警284.1.11框架信息294.1.12运行注意事项304.1.12.1开机注意事项304.1.12.1停机注意事项315.工程维护315.1传输设置315.1.1传输工程文件325.2WINGP运行336.变量地址表341.系统简述TFT系统需要实现玻璃在真空环境下自动化的连续镀膜，生产线布置为“回”字型矩形结构，生产线划分为4个区，位于生产线左右侧的上

3、片区和下片区，位于上下片平台间的工艺区和回传区，其中呈”->”方向移动的区域为工艺区，呈”<-“方向移动的区域为回送区。TFT控制系统实现对生产过程中的真空、加热、传动、电源、冷却水、工业气体在镀膜过程中的连续控制。1.1真空系统真空系统设备集中于真空室区域，由抽气设备（机械泵、罗茨泵、分子泵）检测设备（PG表，CG表）、安全阀（分子泵前蝶阀、机械泵罗茨泵间自吸阀、管道阀和破空阀）；通过机械泵->罗茨泵->分子泵接力抽气，将腔室内压力由大气变为真空，并在生产过程中保持适合生产的真空环境；1.2传

4、送系统传送系统共24台操作电机，上下片平台各4台，工艺区11台，回传区5台传动电机，除上下片平台各有2台电机可实现双向传动外，其余电机均为单向传动；其中除M3–M9可以通过端子通断和模拟量信号协同控制电机转速外，其余电机的传动速度由端子通断直接控制；1.3加热系统加热系统共66台，在连续生产过程中，逐段加热工艺区腔室内的温度，以确保在玻璃在镀膜过程中的环境温度，加热系统进行PID运算，通过固态继电器的电压脉冲控制加热器的加热频率；1.4溅射电源在工艺区有4个溅射室，室内配置MF中频溅射电源和DC

5、直流溅射电源，通过电源产生的高电压电离气体分子；1.5冷却水机械泵、分子泵、溅射电源冷却管路安装有压力检测设备，通过水流开关检测冷却水压力是否符合设备冷却的要求；1.6工艺气路气路由供气管道，流量计和切断阀组成；2.系统供电2.1柜体通电前检查Ø柜间连接线校核；Ø所有断路器，熔断器处于断开状态；Ø检查泵组柜，电加热柜一次主排、母排绝缘和是否短路；Ø检查泵组柜，PLC柜，电加热柜，电源柜是否短路；2.2现场设备通电前检查Ø电缆接线的校核；Ø接线的电源电压等级是否与设备匹配；Ø机械泵，罗茨泵，传动电

6、机通电前进行三相对地绝缘（电阻>0.5M欧）测试；Ø其它现场设备是否有短路现象，例如分子泵，阀门等；Ø控制回路的功能测试；2.3电源送电顺序2.3.1PLC控制柜Ø传动控制柜PLC模块电源供电(220V)QF51->SB54（面板）->QF81;ØPLC控制柜及PLC模块触摸屏供电(220V)QF51->SB54（面板）->QF82;Ø检修插座供电(220V)QF51->SB54（面板）->QF86;Ø传动控制柜I/O模块供电(24V)QF51->SB54->QF71->QF74;ØPLC控制柜

7、I/O模块供电(24V)QF51->SB54->QF71->QF71.1;Ø流量计供电(±15V)QF51->SB54->QF61;Ø温度控制器供电(24V)QF51->SB54->QF64->QF64.1;Ø中频/直流控制电源(24V)QF51->SB54->QF64->QF66;Ø阀门，机械泵气镇，油镇供电(24V)QF51->SB54->QF84->QF84.1;Ø光电开关及真空计电源(24V)QF51->SB54->QF84->QF85;传动电机供电(380V)QF51(泵组控制柜)--

8、>QF165(泵组控制柜)-->(QF52-QF311)2.3.2电加热柜Ø电加热供电(220V)QF51(泵组控制柜)->QF166(泵组控制柜)->(QF54~QF185)2.3.3泵组柜Ø机械泵供电(380V)QF51->QF111(进片室)QF51->QF114(工艺区)QF51->QF116(出口室)Ø罗茨泵供电(380V)QF51->QF112(进片室)QF51->QF115(工艺区)QF51->QF118(出口室)Ø分子泵供电(380V)QF51->(QF111-QF162)Ø中频