卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制

《卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在应用文档-天天文库。

1、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制　　高真空单靶磁控溅射镀膜机　　使用说明　　沈阳天成真空技术有限责任公司　　XX1年12月　　高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明　　本磁控溅射设备是受吉林大学的委托，根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品，溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。　　下面就本磁控溅射设备的构成及其配置、操作及其注意事项说明如下：　　1设备构成及其配置　　本沉积系统主要由镀膜系统、真空获得及测量系统、配气系统、加热器与温度控

2、制系统、升降系统、水路循环系统等组成。该沉积系统结构图如下：　　镀膜系统　　镀膜系统由装片架、磁控靶等组成。装片架　　装片架主要由架板、样品卡等组成。详见下图：　　磁控靶目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制　　高真空单靶磁控溅射镀膜机　　使用说明　　沈阳天成真空技术有限责任公司　　XX1年12月　　高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明　　本磁控溅射设备是

3、受吉林大学的委托，根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品，溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。　　下面就本磁控溅射设备的构成及其配置、操作及其注意事项说明如下：　　1设备构成及其配置　　本沉积系统主要由镀膜系统、真空获得及测量系统、配气系统、加热器与温度控制系统、升降系统、水路循环系统等组成。该沉积系统结构图如下：　　镀膜系统　　镀膜系统由装片架、磁控靶等组成。装片架　　装片架主要由架板、样品卡等组成。详见下图：　　磁控靶目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。

4、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制　　高真空单靶磁控溅射镀膜机　　使用说明　　沈阳天成真空技术有限责任公司　　XX1年12月　　高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明　　本磁控溅射设备是受吉林大学的委托，根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品，溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。　　下面就本磁控溅射设备的构成及其配置、操作及其注意事项说明如下：　　1设备构成及其配置　　本沉积系统主要由镀膜系统、真空获得及测量系统、配气系统、加热器与温度控

5、制系统、升降系统、水路循环系统等组成。该沉积系统结构图如下：　　镀膜系统　　镀膜系统由装片架、磁控靶等组成。装片架　　装片架主要由架板、样品卡等组成。详见下图：　　磁控靶目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制　　高真空单靶磁控溅射镀膜机　　使用说明　　沈阳天成真空技术有限责任公司　　XX1年12月　　高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明　　本磁控溅射设备是

6、受吉林大学的委托，根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品，溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。　　下面就本磁控溅射设备的构成及其配置、操作及其注意事项说明如下：　　1设备构成及其配置　　本沉积系统主要由镀膜系统、真空获得及测量系统、配气系统、加热器与温度控制系统、升降系统、水路循环系统等组成。该沉积系统结构图如下：　　镀膜系统　　镀膜系统由装片架、磁控靶等组成。装片架　　装片架主要由架板、样品卡等组成。详见下图：　　磁控靶目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。

7、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划卷绕式海面材料真空磁控溅射镀膜设备研制　　高真空单靶磁控溅射镀膜机　　使用说明　　沈阳天成真空技术有限责任公司　　XX1年12月　　高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明　　本磁控溅射设备是受吉林大学的委托，根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品，溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。　　下面就本磁控溅