高真空单靶磁控溅射镀膜机的研制

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8、溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品，溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。高真空单靶磁控溅射镀膜机的研制9高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明沈阳天成真空技术有限责任公司20011年12月高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明本磁控溅射设备是受