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时间:2018-12-06
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1、全球半导体技术发展新路线图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球
2、半导体技术发展新路线图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球半导
3、体技术发展新路线图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球半导体技
4、术发展新路线图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球半导体技术发
5、展新路线图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球半导体技术发展新
6、路线图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球半导体技术发展新路线
7、图发布 2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。 全球半导体技术发展路
8、线 综观未来7~15年设备和系统的发展,基于全新原理的设备将支持全新的架构。 20世纪60年代后期,硅栅自对准工艺的发明奠定了半导体规格的根基。摩尔1965年提出的晶体管每两年更新换代一次的“摩尔定律”,以及丹纳德1975年提出的“丹纳德定律”,促进了半导体产业的成长,并一直延续到21世纪初,这是“传统几何尺寸按比例缩小”的时代。 进入“等效按比例缩小”时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去十年半导体产业的发展,并将持续支
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