全球半导体技术发展新路线图发布.doc

全球半导体技术发展新路线图发布.doc

ID:27850016

大小:78.00 KB

页数:14页

时间:2018-12-06

全球半导体技术发展新路线图发布.doc_第1页
全球半导体技术发展新路线图发布.doc_第2页
全球半导体技术发展新路线图发布.doc_第3页
全球半导体技术发展新路线图发布.doc_第4页
全球半导体技术发展新路线图发布.doc_第5页
资源描述:

《全球半导体技术发展新路线图发布.doc》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、全球半导体技术发展新路线图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。  全球

2、半导体技术发展新路线图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。  全球半导

3、体技术发展新路线图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。  全球半导体技

4、术发展新路线图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。  全球半导体技术发

5、展新路线图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。  全球半导体技术发展新

6、路线图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。  全球半导体技术发展新路线

7、图发布  2014年4月,美国半导体协会发布了题为《InternaTIonaltechnologyroadmapforsemiconductors》的研究报告,分析了半导体产业的生态环境,提出了全球半导体技术发展的路线,以及面临的短期挑战和长期挑战。报告指出,进入“等效按比例缩小”(EquivalentScaling)时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去10年半导体产业的发展,并将持续支持未来半导体产业的发展。      全球半导体技术发展路

8、线  综观未来7~15年设备和系统的发展,基于全新原理的设备将支持全新的架构。  20世纪60年代后期,硅栅自对准工艺的发明奠定了半导体规格的根基。摩尔1965年提出的晶体管每两年更新换代一次的“摩尔定律”,以及丹纳德1975年提出的“丹纳德定律”,促进了半导体产业的成长,并一直延续到21世纪初,这是“传统几何尺寸按比例缩小”的时代。  进入“等效按比例缩小”时代的基础是应变硅、高介电金属闸极、多栅晶体管、化合物半导体等技术,这些技术的发展支持了过去十年半导体产业的发展,并将持续支

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。