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时间:2018-12-04
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1、ASML表示2018年将出货20套光刻机,上半年业绩表现亮眼 荷兰半导体设备大厂ASML日前表示,该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)光刻机,该数量预期在2019年将增加到30套以上。 ASML是在最近发布的第二季财报中做出以上预估数字,该公司也透露其整体EUV工具销售业绩优于预期,达到约32亿美元;ASML执行长PeterWennink表示,「毛利率比我们的预期略高,反映了我们的深紫外光(DUV)与应用业务的强劲表现,以及EUV获利进展。 ASML在第二季出货4套EUV系统,比先前预测的多了1套;Wennink表示这是因为逻辑元件客户准备要在今年稍晚量产下一代产
2、品。被视为5纳米以下先进半导体制程重要推手的EUV技术终于在迟到数年后迈入量产阶段,包括三星(Samsung)、英特尔(Intel)与台积电(TSMC)都打算在明年采用EUV进行量产;不过EUV技术仍存在与光源、良率等方面的挑战。 而ASML表示,该公司现在已经证实能在NXE:3400B系列EUV系统的出货上,达到超过85%的4周交货期,并正在执行数个专案以期在2019年达到超过90%的如期交货。 Wennik还指出,ASML的DUV微影业务持续发展蓬勃,主要来自于记忆体市场需求;他表示该市场至少在今年与2019年仍然需要大量的微影系统。 而ASML在2018上半年业绩表现亮眼
3、,预期下半年也将维持成长力道,获利方面的成长可望延续至第三季、第四季。 展望第三季,ASML预期销售额在27亿至28亿欧元之间(约为31.5亿美元~32.6亿美元)。
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