ASML EUV搅局半导体设备供应链 这些厂商压力山大.doc

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1、ASMLEUV搅局半导体设备供应链这些厂商压力山大  ASML股票在1月17日上涨了7%,以199.18收盘,因为ASML公布了过去12个月的季度销售情况,为30.7亿美元,实现同比增长53%,超过其预期的25.2亿美元。ASML实现了7.7亿美元的利润,远超出了5.44亿美元的分析目标。  与此同时,LamResearch股票上涨7.7%至205.08,应用材料上涨5.2%至57.34,KLATencor上涨5.4%至113.49。  首先,我将先对ASML主宰光刻行业进行介绍;然后,对我的观点——ASML盈利表现良好对LamResearch、应用材料、KLATencor

2、是不利的,进行解读。  对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业,可以利用不同技术实现10nm以下工艺的光刻设备商只有三家:  荷兰ASML–EUV(极紫外光)光刻  日本尼康–浸没式DUV(深紫外光)光刻  日本佳能–纳米压印光刻(NIL)  最初,这三家企业都是从制造传统光学光刻设备起家,其技术可追溯二十世纪八十年代。随着摩尔定律的演进,它们的产品也在发生变化。如图1所示,有多种技术可用于在晶圆表面上复制光掩模。    2016年,ASML、尼康与佳能在不同行业起到了领导性作用。图2是I-linestepper市场份额情况,I-linestepper可为所有类型光刻工具提供

3、最低分辨率,售价在4~6百万美元。出售的79种工具中,大部分是升级版,因为它们的鼎盛时期在1990年初,但它们仍然被应用于需要低分辨率的应用场景中。

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