tpm运用于京东方液晶显示制造之概述

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1、TPM运用于京东方液晶显示制造之概述----毕业范文论文-->第一章绪论1.1研究背景与意义1.1.1研究的意义随着行业竞争的不断加剧，液晶显示面板企业面临着越来越多的来自于企业外部和内部的各种各样的需求。企业外部，要求企业的新产品生产具有较好的时效性；迅速应对市场的需求动向；有效应对商品价格推移下调的运营压力；保证高度的产品质量；资源节约、能源节约等等。企业内部，要求设备保持较高的有效稼动率；保持较低的原材料损耗，如玻璃基板的破损；尽可能缩短产品的生产周期和加快各工艺的生产节拍；严格管控工艺异

2、常情况和异常反馈速度；有效的管理设备的各种备品备件；避免人员出现断层，及其造成知识结构差异及工作效率低下等等。要想圆满解决这些需求，“成为显示领域的世界领先企业”（京东方的企业愿景，就需要有一套科学的、先进的、适合企业自身特点的管理方法，从根本上彻底改善企业体制，不断满足企业外部的各种需求，降低企业的运行成本，提高生产效率和产品质量，提升核心竞争力。1.2TPM的研究进展1.2.1TPM的发展历史1951年以前的设备管理是事后维修。这种管理方式下，设备不进行维护和保养，只进行设备故障维修。其特点

3、是坏了才修，不坏不修；其优点是充分利用了零部件或系统部件的寿命，设备的维修费用最低；其缺点是非计划性维护和保养，停机时间和时长都无法确定，材料、人员、技术准备都没有，交货期无法保证，而且有的设备故障无法修复，造成设备的永久损坏，缩短设备的使用寿命。1951年后，生产维修体制主要为预防维护，以前苏联为首的计划预维修机制和以美国为首的预防维修机制为主，这种体制以摩擦学为理论基础，属于TPM，即以时间为基础的维修。其特点是计划性、周期性；优点是可以减少故障停机，将潜在的故障消灭在萌芽状态；缺点是受计划

4、准确性的影响，可能产生维修过剩，造成设备稼动率较低，或者维修不足，造成事后维修。这种预防式的维护保养对延长设备寿命有很大帮助，目前京东方工厂有很多维护保养项目都釆取这种方式，如定期注油等等。从1960年开始，进入了保养预防时代。其特点是企业不但对设备进行使用、维护、保养，还一定程度的参与设备的设计制造，在设备的设计制造阶段就认真改进其可靠性和维修性，从设计制造上提高质量，从根本上防止故障和事故的发生，又称为无维修设计。这种设备的优点是可靠性特别高，其维修概率趋近于零，而且一旦故障发生，维修工作也

5、能够非常顺利的进行。其显而易见的缺点是设备费用非常高。第二章京东方显示的问题分析本章主要对液晶显示面板制造行业的情况和北京京东方显示的管理现状进行了具体研究，得到了京东方显示在管理中的问题，为后面推进TPM管理方法找到切入点。2.1液晶显示面板制造行业特征2.1.1液晶显示面板制造的技术特征以Array制程为例，Array制程主要是在玻璃基板上进行多次薄膜沉积，曝光，刻烛等工艺，一般循环经过四次或五次，就能够形成薄膜晶体管基板。每次循环需要经过的具体工艺有：薄膜（金属或非金属膜）沉积，清洗，涂光

6、阻剂，曝光，显影，干法或湿法烛刻，剥离（去光阻剂），电学或光学检查，参考图2-1。TFT-LCD的主要原材料是一片厚度不超过1mm，表面平滑、没有任何杂质的玻璃。在进行第一步薄膜沉积之前，要将玻璃清洗一遍，去除玻璃制造过程及运输过程中产生的污染。然后将玻璃放在真空腔室内，在真空腔室中等离子体的作用下，金属表面的原子会脱离原来的金属，形成带电离子，通过真空腔室中的电磁场，带电离子就会撞向玻璃，形成一层的金属薄膜。将形成金属膜的玻璃基板送到黄光腔室中涂敷感光极强的光阻剂，在光阻剂上方罩上光覃，光通过

7、光罩对光阻剂进行曝光，然后进入显影液中进行显影，根据光阻剂的性质，受光部分与显影液发生反应并被去除，而未受光部分仍然保留在玻璃基板上。将曝光先影后的玻璃基板送到湿法刻烛腔室中，去除光阻剂的金属膜与腔室中的刻烛液发生反应并被去除，受光阻剂保护的金属膜刻蚀后仍然保留在玻璃基板上。刻烛结束后保护金属膜的光阻剂去除，形成薄膜晶体管的栅极扫描线。经过第一次循环形成栅极扫描线后，需要在其上镀一层绝缘保护层和一层半导体层。2.2京东方显示的现状2.2.1京东方显示简介京东方显示是京东方科技集团股份有限公司的第

8、四条TFT-LCD液晶显示面板生产线，总投资额是280亿人民币，设计产能为玻璃基板月投入9万片，主要制程包括阵列、彩膜、对盒、模组在内的所有制程。北京市政府以京东方显示为核心，在亦庄开发区配套建设了北京数字电视产业园，其中生产的九大主要材料，除背光源和彩膜已经内置于生产工艺中，液晶需从德国进口外，其它的玻璃基板、大宗气体、化学品、电路板、偏光片及驱动材料都已经进入园区。2.2.2京东方显示阵列工厂简介液晶显示面板制造分为四大工程，阵列、彩膜、对盒、模组。这其中阵列工程是最重要的第一步工程，其主要