上颌骨全切术后的赝复体修复.doc

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1、上颌骨全切术后的赝复体修复【关键词】上颌骨；全切术后；修复,　　［关键词］上颌骨；全切术后；修复　　　　　　据临床统计，口腔颌面部恶性肿瘤约为全身恶性肿瘤的10％，对于发生在上颌骨的恶性肿瘤，手术切除仍为主要的治疗方法之一。根据肿瘤的性质和病变范围，分别施行上颌骨部分、次全以及全切术。手术造成的颌面缺损，不仅影响患者的咀嚼、语音、吞咽、吮吸、呼吸功能及面部容貌，对患者的心理、精神也造成极大创伤，严重影响了生活质量，因此颌面部缺损的患者，对修复治疗的要求比一般牙列缺损者更为迫切。颌骨切除术后的修复方法，有关术后3个月永久性修复的报道较多，但在术后

2、至永久性修复之前如何正确处理，尚未见详细介绍。我科室一直配合颌面外科开展颌骨切除术的赝复体修复工作，积累了一定经验，取得了较好的临床修复效果。现仅就上颌骨全切术后的赝复体修复做一总结汇报。　　1　材料与方法　　1.1　临床资料　近5年来共做上颌骨全切术后赝复体修复32例，其中男性23例，女性9例。年龄39岁～67岁。肿瘤类型为鳞状细胞癌27例；腺性上皮癌5例。　　1.2　制作过程　　1.2.1　取印模　采用个别托盘法。首先选择一种比较合适的托盘，托盘唇颊侧边缘不应过宽或过窄，后缘应覆盖且超过手术切除的边缘范围。空腔区可根据口腔缺损情况用蜡团分次

3、添加，调整试合，尽量与缺损区情况接近并对唇颊组织有一定支持作用。取模前应去除口腔内黏稠唾液和食物残渣，取模时外牵内陷的唇颊组织。印模范围以充满整个缺损腔并能基本恢复唇颊部外形为原则。　　1.2.2　灌注模型　由于缺损腔大，灌模时石膏应包过唇颊侧的印模边缘，使其在模型上能充分反映出唇颊侧组织的位置和形状。模型通常较厚。　　1.2.3　颌位记录　在灌注模型后，用石膏填塞模型腔周不规则组织面。先用蜡片烤软后覆盖整个组织面，再用蜡团填塞空腔，在口内试戴，不足以添加，反复调必至合适，完成缺上颌骨腭组织及部分牙槽骨的蜡型部分，即蜡型的基底部分。用烤软的蜡在

4、基底部分上方制作蜡堤，放入口内求得正中位关系，固定后取出。蜡型要求尽量恢复面部外形，在上面标出前牙排列标志线。　　1.2.4　试戴　常规上架，排列人工牙，口内试戴，试戴时注重检查修复体的固位、边缘封闭关况、咬合关系以及面部外形恢复状况。　　1.2.5　常规完成中空基托。2　　1.2.6　戴赝复体　调整咬合及边缘，打磨抛光，使之无粗糙面或尖锐边缘，最终完成修复体的制作。　　2　结果　　此类颌骨缺损范围广，较深，无论在固位、支持以及修复方法上，都存在较大困难。修复后1周复查，80%患者赝复体固位良好，咬合时稍有下沉但咬合接触好，能咀嚼一般软食和完成

5、吞咽功能，对外形较为满意。另有20%的患者，张口时赝复体有向脱位现象，能勉强进食，有食物嵌塞现象，但对外形仍较满意。　　3　讨论　　3.1　修复时机　应在手术拆线后立即取模并在操作后再次填塞空腔，应在3d～5d内尽快完成赝复体的制作。早期修复除有保护手术区创面，利用食物、水的吞咽，恢复部分生理功能外，对减少瘢痕挛缩，减轻面部畸形程度具有重要意义。临床观察曾发现，制作时间超过1周，缺损腔可缩小原来的1/2以上，使修复体无法戴入。另外早期修复对患者的心理有一定的安慰作用，为日后的永久性修复创造有利条件。　　3.2　上颌骨全切术，缺损腔大，腔界不明显

6、，且由于张口受限，取印模困难，而印模的准确性直接影响到修复效果。个别托盘的精心制作非常重要，原则为尽量接近缺损腔，对唇颊有一定支持作用。印模材料不宜调拌过稀，便于材料堆积。完整的印模应能充满整个缺损腔，反映腔内组织形态，并能恢复唇颊组织外形。　　3.3　由于患者上颌骨全部缺损，颌位关系丧失，颌位记录前应用石膏填塞模型腔周不规则组织面，目的是防止赝复体形成不光滑表面，在咬合运动中移位，刺激脆弱的局部组织。缺损腔底部不应填塞，以保证赝复体一定支持作用。颌位记录时，若蜡型体积过大或张口受限严重，可采用分段式颌托，但应注意上下两部分应能准确对合。　　3

7、.4　赝复体的固位　因缺损大，支持组织少，修复体的翘动和摆动也较大，应尽量使修复体填塞整个缺损腔。取模时外牵唇颊组织，戴后唇颊肌的回缩有增强固位力的作用。采用中空基托，尽量减少修复体的重量有助于固位。该类修复体初戴可能存在张口时下移形象，一般约1周后由于组织挛缩，固位力可达到较满意程度。　　3.5　试戴不可缺少　颌位记录时，由于缺损大，颌关系丧失，蜡基托可能会出现下沉、移位等现象，导致记录不准确，另外，该类患者对面形恢复的期望值较高，希望术前术后面形能达到基本一致。因此赝复体最终完成之前的试戴显得尤为重要。临床医师不应因为该次修复为暂时性而不进

8、行试戴或降低制作标准。　　3.6　复诊与护理　医师应叮嘱患者注意保持赝复体的清洁，定期复诊进行磨改。此类修复是暂时的，不应永久性戴用。一般术后3个月～