原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究(论文)

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1、------------------------------------------------------------------------------------------------原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究(论文)第43卷第7期Vol.43No.7红外与激光工程InfraredandLaserEngineering2014年7月Jul.2014原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究陈晟，马艳，张萍萍，王建波，邓晓，肖盛炜，马蕊，李同保(同济大学物理系，上海200092)摘要：利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为

2、成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用，利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制，从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高，光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚，相干等特性进行了研究，取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。关键词：原子光刻；中图分类号：TN405光学掩膜；异形光束；几何光学文献标志码：A文章编号：1007-2276(201

3、4)07-2070-04Productionofdouble鄄layerlightmaskinatomnano鄄lithography——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------ChenSheng,MaYan,ZhangPingping,WangJianbo,DengXiao,XiaoShengwei,MaRui,LiTongbao(D

4、epartmentofPhysics,TongjiUniversity,Shanghai200092,China)Abstract:Takingadvantageofatomlithographytoproducethenanolevelgratinghasbecomeamatureprocesstechnologyinnanofabrication.Whentheatomspassthroughastandingwavefield,usingthedipoleforceontheatomsisanewtechnologytobuildthenanostr

5、uctures.Thegratingobtainedbythismethodhasitsspecialcharacteristic.Itsperiodisdirectlyrelatedtothewavelengthoflaserandthiscanbereviewedtothetransitionfrequencyoftheatom.Itishopedtouseanewkindoflightmasktoimprovethedepositionquality.Usingdouble-layerlightmaskhavebeenmentionedforseve

6、raltimes.Intheexperiment,geometricalopticswereusedtoachievewhatweneed.Aprismwasdesignedtogeneratethisspecialbeam.Fromtheexperimentresult,thebeamiswellgenerated.Thiskindofbeamcanbeeasilyusedinthesubsequentexperiment.Keywords:atomlithography;lightmask;special鄄shapedbeam;geometricalo

7、ptics收稿日期：2013-11-20；修订日期：2013-12-23基金项目：国家自然科学基金(10804084，91123022)；上海纳米专项(0852nm07000，0952nm07000)；国家科技支撑计划(2006BAF06B08)；国家教育部博士点基金(200802471008)——————————————————————————————————————-----------------------------------------------------------------------------------------------

8、-作者简介：陈晟(1989-)，男，硕士生，主要从事原子光刻方面的