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《原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究(论文)》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、------------------------------------------------------------------------------------------------原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究(论文)第43卷第7期Vol.43No.7红外与激光工程InfraredandLaserEngineering2014年7月Jul.2014原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究陈晟,马艳,张萍萍,王建波,邓晓,肖盛炜,马蕊,李同保(同济大学物理系,上海200092)摘要:利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为
2、成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。关键词:原子光刻;中图分类号:TN405光学掩膜;异形光束;几何光学文献标志码:A文章编号:1007-2276(201
3、4)07-2070-04Productionofdouble鄄layerlightmaskinatomnano鄄lithography——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------ChenSheng,MaYan,ZhangPingping,WangJianbo,DengXiao,XiaoShengwei,MaRui,LiTongbao(D
4、epartmentofPhysics,TongjiUniversity,Shanghai200092,China)Abstract:Takingadvantageofatomlithographytoproducethenanolevelgratinghasbecomeamatureprocesstechnologyinnanofabrication.Whentheatomspassthroughastandingwavefield,usingthedipoleforceontheatomsisanewtechnologytobuildthenanostr
5、uctures.Thegratingobtainedbythismethodhasitsspecialcharacteristic.Itsperiodisdirectlyrelatedtothewavelengthoflaserandthiscanbereviewedtothetransitionfrequencyoftheatom.Itishopedtouseanewkindoflightmasktoimprovethedepositionquality.Usingdouble-layerlightmaskhavebeenmentionedforseve
6、raltimes.Intheexperiment,geometricalopticswereusedtoachievewhatweneed.Aprismwasdesignedtogeneratethisspecialbeam.Fromtheexperimentresult,thebeamiswellgenerated.Thiskindofbeamcanbeeasilyusedinthesubsequentexperiment.Keywords:atomlithography;lightmask;special鄄shapedbeam;geometricalo
7、ptics收稿日期:2013-11-20;修订日期:2013-12-23基金项目:国家自然科学基金(10804084,91123022);上海纳米专项(0852nm07000,0952nm07000);国家科技支撑计划(2006BAF06B08);国家教育部博士点基金(200802471008)——————————————————————————————————————-----------------------------------------------------------------------------------------------
8、-作者简介:陈晟(1989-),男,硕士生,主要从事原子光刻方面的
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