光电材料及元件制造业空气污染管制及

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1、光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準中華民國95年1月5日行政院環境保護署環署空字第0950000717號令訂定發布全文十條第一條　　本標準依空氣污染防制法第二十條第二項、第二十一條、第二十二條第一項、第二項、第二十三條第二項規定訂定之。第二條　　本標準專有名詞及符號定義如下：一、光電材料及元件製造業(以下簡稱光電業)：指從事液晶面板製造及其相關材料、元件或產品製造者。但僅從事二極體元件製造者不在此限。二、揮發性有機物(VolatileOrganicCompounds，VOCs)：指含有機化合物之空氣污染物總稱。但不包含甲烷、一氧化

2、碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。三、單位小時許可排放量：指單一公私場所內所有製程，其固定污染源操作許可證所登載單一空氣污染物之年許可排放總量，依核定之年操作時數換算為單位小時排放量稱之；單位為公斤／小時。四、密閉排氣系統(ClosedVentSystem)：指可將製程設備產生之空氣污染物有效捕集並輸送至污染防制設備，使傳送之氣體不直接與大氣接觸之系統。該系統包括管線及連接裝置。五、單位小時管道排放量（以下簡稱管道排放量）：指單一排放管道排放某單一之空氣污染物排放量；；單位為公斤/小時。六、污染防制設備處理效率（以下簡稱

3、處理效率）：指空氣污染物經污染防制設備處理後之排放量削減百分比，依同步檢測污染防制設備前端及後端廢氣濃度及排放量進行計算，其計算公式如下：處理效率=(E-E0)/E×100%；；單位為%。E：經密閉排氣系統進入污染防制設備前之空氣污染物單位小時排放量；單位為公斤/小時。E06：經污染防制設備後逕排大氣之空氣污染物單位小時排放量；單位為公斤/小時。一、新設製程：指本標準發布施行日起設立之製程。二、既存製程：指本標準發布施行日前已完成建造、建造中、完成工程招標程序或未經招標程序已完成工程發包簽約之製程。但既存製程符合固定污染源設置與操作許可證

4、管理辦法第三條規定之變更條件者，以新設製程論。三、使用量：指以溶劑、樹脂或其他形式使用於製程之含揮發性有機物、氫氟酸或鹽酸原物料使用量。四、輸出量：指隨廢溶劑、廢棄物、廢水、產品攜帶或其他形式輸出製程之揮發性有機物、氫氟酸或鹽酸輸出量。五、每季有效監測時數百分率：指監測設施每季之有效監測時數比率，其計算公式如下：P：每季有效監測時數百分率；單位為%。T：固定污染源每季操作時間；單位為小時。t：監測設施汰換時間；單位為小時。Du：監測設施無效數據時間；單位為小時。Dm：監測設施遺失數據時間；單位為小時。第三條　　本標準適用於光電業之煙道排氣

5、，管制空氣污染物項目為揮發性有機物、氫氟酸及鹽酸。第四條　　光電業排放之空氣污染物應經密閉排氣系統收集，並應符合下表規定後始得排放：空氣污染物適用對象排放標準揮發性有機物新設製程處理效率應達百分之八十五或管道排放量Ο．四公斤/小時以下(以甲烷為計算基準)。既存製程處理效率應達百分之七十五或管道排放量Ο．四公斤/小時以下(以甲烷為計算基準)。6氫氟酸污染防制設備前端廢氣濃度三ppm以上者處理效率應達百分之八十五或管道排放量Ο．一公斤/小時以下污染防制設備前端廢氣濃度小於三ppm者處理效率應達百分之七十五或管道排放量Ο．一公斤/小時以下鹽酸污

6、染防制設備前端廢氣濃度三ppm以上者處理效率應達百分之八十五或管道排放量Ο．二公斤/小時以下污染防制設備前端廢氣濃度小於三ppm者處理效率應達百分之七十五或管道排放量Ο．二公斤/小時以下光電業符合固定污染源設置與操作許可證管理辦法第三條規定之變更條件者，其新增之污染防制設備應符合新設製程之排放標準。但本標準發布施行日前已設立之污染防制設備仍適用既存製程之排放標準。第一項單一空氣污染物之單位小時許可排放量小於Ο．六公斤/小時者，其個別排放管道適用之排放標準，應報經地方主管機關核可；單一空氣污染物之單位小時許可排放量達Ο．六公斤/小時之光電業

7、應以處理效率為排放標準。但同一公私場所污染源之之單一空氣污染物氣體經二個以上排放管道排放時，排放量較小或僅含模組(module)製程廢氣之排放管道，報經地方主管機關核可者，得以管道排放量為適用之排放標準。第五條　　前條排放標準之適用規定，應於申請固定污染源操作許可證時，併同空氣污染物排放檢測報告提出，並經地方主管機關或中央主管機關委託之政府其他機關核可後登載於固定污染源操作許可證內容。6本標準發布施行日前已設立之光電業，其排放標準之適用，應於中華民國九十六年三月三十一日前完成所有排放管道之揮發性有機物、氫氟酸及鹽酸等三項空氣污染物檢測作業

8、，並完成檢測報告後報請地方主管機關或中央主管機關委託之政府其他機關核可後登載於固定污染源操作許可證內容。第一項及第二項排放標準適用之異動，應檢具最近一年內之空氣污染排放檢測報告，依固定污染源設