电解液对准分子电化学刻蚀硅的影响研究

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1、------------------------------------------------------------------------------------------------电解液对准分子电化学刻蚀硅的影响研究第２９卷第１期２００９年２月应用激光Ｖ０１．２９，Ｎｏ．１Ｆｅｂｒｕａｒｙ２００９ＡＰＰＬＪＥＤＬＡＳＥＲ龙芋宏１，史铁林２’３，熊良才２”，柳海鹏２（１桂林电子科技大学机电工程学院。广西桂林５４１００４；２华中科技大学机械科学与工程学院，湖北武汉４３００７４；３武汉光电国家实验室（筹），湖北武汉４３００７４）提要激光电化学刻蚀是将激光加Ｔ技

2、术和电化学加工技术有机结合起来而形成的一种复合型刻蚀Ｔ艺。为了研究电解液对激光电化学刎蚀硅的影响，本文采用２４８ｎｍＫｒＦ准分子激光作为光源聚焦照射浸在ＫｏＨ溶液中的阳极半导体ｎ－Ｓｉ上，实现激光诱导电化学刻蚀。在实验的基础上，研究了化学溶液对激光电化学刻蚀Ｓｉ的刻蚀表面形貌和刻蚀速率的影响，并对其产生的原因进行了分析。试验结果表明：化学溶液对刻蚀下艺的影响主要来源于不同浓度的溶液对激光的吸收和折射；采用吸收率较小、浓度较低的溶液和控制液膜厚度能有效减小溶液飞溅和溶液折射。本文中，溶液的厚度控制在１ｍｍ左右。关键词准分子激光；————————————————————

3、——————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------电化学；刻蚀；溶液中图分类号：ＴＧ６６５文献标识码：ＡＴｈｅＳｔｕｄｙｏｆｔｈｅＳｏｌｕｔｉｏｎＥｆｆｅｃｔＬｏｎｇＹｕｈｏｎ９１，ｏｎＬａｓｅｒ－ｉｎｄｕｃｅｄＥｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌＥｔｃｈｉｎｇｏｆＳｉｌｉｃｏｎＳｈｉＴｉｅｌｉｎ２‘３，ＸｉｏｎｇＬｉａｎｇｃａｉ２“，ＬｉｕＨａｉｐｅｎ９２（１ＳｃｈｏｏｌｏｆＭｅｃｈａｎｉｃａｌ

4、＆ＥｌｅｃｔｒｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＧｕｉｌｉｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｇｕｉｌｉｎ，Ｃ，ｕａｎｇｘｉ５４１００４，ｏｆＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＨｕａｚｈｏｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｗｕｈａｎ。Ｃｈｉｎａ‘２ＳｃｈｏｏｌＨｕｂｅｉ４３００７４，Ｃｈｉｎａ；３ＷｕｈａｎＮａｔｉｏｎａｌＬａｂｏｒａｔｏｒｙｆｏｒＯｐｔｏ－ｅｌｅｃｔｒｏ——————————————————————————————————————-------------

5、-----------------------------------------------------------------------------------ｎｉｃｓ，Ｗｕｈａｎ，Ｈｕｂｅｉ４３００７４，Ｃｈｉｎａ）Ａｂｓｔｒａｃｔｐｒｏｃｅｓｓ。ｉｓＬａｓｅｒｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｅｔｃｈｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓ。ｗｈｉｃｈａｃｏｍｂｉｎｅｓｌａｓｅｒｄｉｒｅｃｔｅｔｃｈｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓｏｎａｎｄｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｅｔｃｈｉｎｇｃｏｍｐｏｕｎｄｅｔｃｈｉｎｇｐａｐｅｒｔｅｃｈｎｉｑｕｅ．Ｉｎｏｒｄｅｒｔｏｆｕｒｔｈｅｒｕｎｄｅｒｓｔａｎ

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