概述分析化学在pcb生产中对铜离子测定的应用

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2、归原作者所有。不代表牛档搜索（Niudown.COM）赞成本文的内容或立场，牛档搜索（Niudown.COM）不对其付相应的法律责任！概述分析化学在PCB生产中对铜离子测定的应用梁大鹏宁波经济技术开发区东亚电路板有限公司摘要：本文概述了在PCB生产过程中关于电镀铜工艺、化学铜工艺以及环保排放水中铜离子测定方法。关键字：酸性测铜离子碱性测铜离子紫外可见分光光度计测铜离子前言在传统的PCB生产过程中，对化学药水中铜离子的测定时及其重要的，因为化学药水中铜离子含量的高低直接影响到化学药水本身的化学性能，电镀性能，也与产

3、品的质量有着不可分割的密切联系。在PCB生产过程中铜离子的测定方法是多种多样的，目前我们在生产过程中铜离子的测定方法主要分为三大类：一、酸性测定铜离子——用Na2S2O3标准溶液滴定。主要包括PTH线中粗化药水（H2S2O4系列）铜离子的测定；PTH线中沉铜药水铜离子的测定；酸性蚀刻液中铜离子的测定。二、碱性测铜离子——用EDTA标准溶液滴定。主要包括图电铜锡线、图电镍金线、防氧化线（OSP）中微蚀药水的铜离子的测定。三、紫外可见分光光度计测铜离子。主要是侧环保排防水中铜离子的含量。以上是我们在PCB生产过程中对

4、铜离子测定方法的一个基本划分，由于我们的水平有限，不足之处在所难免，欢迎各位同仁提出宝贵的意见。测定方法一、酸性测铜离子——用Na2S2O3标准溶液滴定1.PTH线中粗化药水（H2SO4-H2O2）铜离子的测定（1）取1ml槽液于250m碘量瓶中。（2）加100ml取离水和5g碘化钾，立即盖上盖，摇动溶解后在暗处放置台10-30min。（3）用0.1NNa2S2O3标准溶液滴定至淡棕色后加入1ml1%淀粉溶液，继续滴定直至溶液有深蓝色变为白色为终点。（4）计算：Cu2+(g/L)=63.54N×（V2-V1）V2

5、——测定Cu2+时耗去的Na2S2O3标准溶液的体积（ml）V1——测定H2O2时耗去的Na2S2O3标准溶液的体积（ml）N——Na2S2O3标准溶液的量浓度（mol/L）2.PTH线中沉铜药水铜离子的测定（1）吸取20ml工作液于250ml锥形瓶中（2）加入50%的H2SO48ml（3）加入1gKI摇动充分溶解（4）用0.1NNa2S2O3滴定至淡黄色时加入3gKSCN，再加入5ml淀粉指示剂，继续滴定至蓝色消失为止（5）计算Cu2+(g/L)=3.2×N×VV——耗用Na2S2O3标准溶液的体积（ml）N—

6、—Na2S2O3标准溶液的量浓度（mol/L）3.酸性蚀刻液重铜离子的测定（1）取1ml工作蚀刻液注入250ml锥形瓶中并加入100ml去离子水（2）加入5ml冰醋酸和5gKI后，在暗处放置10min（3）用0.1NNa2S2O3标准溶液滴定至浅黄色（4）加入5ml淀粉指示剂、溶液变成黑色（5）继续以0.1NNa2S2O3标准溶液滴定至白色为终点（6）计算：Cu2+(g/L)=3.2×N×VV——耗用Na2S2O3标准溶液的体积（ml）N——Na2S2O3标准溶液的量浓度（mol/L）4.关于酸性铜离子的几点说明

7、：（1）加酸的目的：放置铜溶解时水解，PH值应控制在3.5-4.0Cu2++H2O=Cu（OH）2+2H2+↓增加酸←———————平衡移动方向（2）加过量KI的作用有三个：1）作为沉淀剂生成CuI；2）作为还原剂将Cu2+→Cu+；3）作为络合剂使析出的定量的I2形成较稳定的I3-；I2+II3-，反应时可逆的，当用Na2S2O3标准溶液滴定时，平衡向左移动知道定量的I2完全反应（3）加KSCN的母的：由于CuI沉淀表面吸附少量的使I2测得得结果偏低，因此常在近终点时加入KSCN使CuI转化为溶液积更小、很少吸

8、附I2的CuSCN沉淀CuI+SCN-=CuSCN+I-↓同时在反应中由于CuI沉淀吸附的I2也被释放出来可继续用Na2S2O3标准溶液滴定到终点（4）加入KI后为什么要在暗处放置一段时间？实验证明2Cu2++4I-=2CuI↓+I2这一反应速度较慢，需要放置一段时间后反应才能定量完成。加入KI而且一定要过量，不仅是为了加快反应速度，也是为了防止I2的发挥，此时生成[I3