氢化物发生法测定痕量砷、锑、铋、汞

氢化物发生法测定痕量砷、锑、铋、汞

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1、氢化物发生法测定痕量砷、锑、铋、汞一、实验原理试样经王水分解,在HCl(1+9)介质中,用硫脲—抗坏血酸将五价As、Sb预还原为三价,再用KBH4将其还原为氢化物。在盐酸介质中,用KBH4将Bi和Hg还原为BiH3和Hg。以无极放电灯为光源,用双道无色散AFS仪分别测定As、Sb、Bi和Hg的荧光强度,加入铁盐消除干扰。本方法适用于化探试样中W(AS)/10-6=0.5~100,W(Sb)/10-6=0.05~10,W(Bi)/10-6=0.5~5,W(Hg)/10-6=0.005~5.二、试剂配制砷标准储存溶液:称取4.1647g砷酸氢二钠(

2、Na2HAsO4·7H2O),用少量蒸馏水溶解,然后移入1000mL容量瓶中,加入40mL的HCl。用水稀释至刻度,混合均匀。此溶液含As1000ug/mL。锑标准储存溶液:称取2.7427g酒石酸锑钾(KSbC4H4O7·1/2H2O),溶于HCl(1+4)溶液中,然后移入1000mL容量瓶中,用HCl(1+4)溶液稀释至刻度,混合均匀。此溶液中含有Sb1000ug/mL。砷、锑混合标准溶液:分别移取计算量的砷、锑标准储存溶液,用HCl(1+4)溶液逐级稀释配制成5.0ug/mLAs和0.5ug/mLBi的混合标准溶液。铋标准储存溶液:称取1

3、.0000g高纯金属铋于烧杯中,加入50mL的HNO3,低温加热至完全溶解,冷却后移入1000mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混合均匀。此溶液含Bi1000ug/mL。铋标准溶液:移取定量的储存液,用HCl(1+4)逐级稀释配成1.0ug/ml的Bi标准溶液。汞标准储存溶液:0.6768g优级纯HgCl2,用水溶解,加入25mL的HNO3,0.5gK2Cr2O7,溶解后移入500mL容量瓶中,用蒸馏水定容。此溶液含Hg1000ug/mL。汞标准溶液:称取定量的储存溶液,用含0.5g/L的K2Cr2O7的HNO3(1+19)溶液逐级稀释配成0.5u

4、g/mL的Hg标准溶液。铁盐稀释溶液:称取3gFe2O3,用100mLHCl加热溶解,再加1100mLHCl和1800mLH2O。混合均匀。此溶液中含有Fe2O31ug/mL。18硫脲-抗坏血酸混合还原剂:称取25g硫脲、20g抗坏血酸和5g酒石酸溶于350mL蒸馏水中,再加150mL的HCl混合均匀。KBH4溶液:14.0gKBH4溶于先加有2gKOH的200mL蒸馏水中,用脱脂棉滤后稀释至1000mL,混合均匀,用于As、Sb的还原;10gKBH4溶于先加有5gKOH的200mL蒸馏水中,用脱脂棉滤后稀释至1000mL,混合均匀,用于Bi、

5、Hg的还原。现用现配。三、仪器工作原理、工作条件设置及具体使用方法本实验室使用AFS-2202型全自动双道原子荧光仪。1、仪器工作原理首先,酸化过的样品溶液中的砷、铅、锑、汞等元素与还原剂(一般为硼氢化钾或钠)反应在氢化物发生系统中生成氢化物:Em++KBH4+3H2O+H+===H3BO3+K++8H*===EHn+H2(气体)式中Em+代表待测元素,EHn为气态氢化物(m可以等于或不等于n)。测定的过程里我们使用的是硼氢化钾而不是硼氢化钠,因为硼氢化钾比硼氢化钠便宜,硼氢化钾在氢氧化钠中稳定,不易分解。过量氢气和气态氢化物与载气(氩气)混合

6、,进入原子化器,氢气和氩气在特制点火装置的作用下形成氩氢火焰,使待测元素原子化。待测元素的激发光源(一般为空芯阴极灯或无极放电灯)发射的特征谱线通过聚焦,激发氩氢焰中待测物原子,得到的荧光信号被日盲光电倍增管接收,然后经放大,解调,再由数据处理系统得到结果。2、仪器总体结构18AFS-2202E型双道原子荧光光度计主要由荧光光度计主机、130位自动进样器、断续流动氢化物发生及气液分离系统、数据处理系统等部分组成。3、原子荧光光度计主机原子荧光光度计主机主要有四部分构成:即原子化系统、光学系统、电路系统、气路系统。主机视图:4、仪器工作条件WYD

7、-2型双道氢化物无色散AFS仪,WB-2型双道无极放电灯微波发生器,无极放电灯。入射功率10-40W,反射功率<1-5W;原子化温度850-900℃;光电倍增管负高压视被测元素而定;氩气流量1.2L/min;KBH4溶液流速1.2mL/S。5、AFS-2202E型原子荧光光度计的操作规程:18(1)打开计算机,打开AFS-2202E的电源开关(2)点击“开始”—程序—AFS序列原子荧光光度计—AFS-2202E型原子荧光光度计(3)选择“A道”与“B道”待测元素的元素灯,如“A道”为AS,“B道”为Sb,点确定。(4)单击“运行”--点火;文件

8、--气路自检--全部检测--关闭。(5)单击“文件”—连接数据库—选择“a”--确定(6)单击“条件设置”—仪器条件—测量条件—断续流动程序—A、B道

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