pcb生产工艺流程培训教材

pcb生产工艺流程培训教材

ID:1230366

大小:12.56 MB

页数:56页

时间:2017-11-09

pcb生产工艺流程培训教材_第1页
pcb生产工艺流程培训教材_第2页
pcb生产工艺流程培训教材_第3页
pcb生产工艺流程培训教材_第4页
pcb生产工艺流程培训教材_第5页
资源描述:

《pcb生产工艺流程培训教材》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、PCB生产工艺培训编制:杨延荣目录印制电路板简介原材料简介工艺流程介绍各工序介绍2009-4-12PCBPCB全称printcircuitboard,是在覆铜板上贴上干膜,经曝光显影、蚀刻形成导电线路图形在电子产品起到电流导通与信号传送的作用,是电子原器件的载体.2009-4-131、依层次分:单面板双面板多层板2、依材质分:刚性板挠性板刚挠板线路板分类2009-4-14主要原材料介绍干膜聚乙烯保护膜光致抗蚀层聚酯保护膜主要作用:线路板图形转移材料,是内层线路的抗蚀膜,外层线路遮蔽膜主要特点:一定温度与压力作用下,会牢

2、固地贴于板面上;在一定光能量照射下,会吸收能量,发生交联反应;未被光照射到的部分,没有发生交联反映,能被弱碱液溶解。存放环境:恒温、恒湿、黄光安全区2009-4-15主要原材料介绍覆铜板铜箔绝缘介质层铜箔主要作用:多层板内层板间的粘结、调节板厚;√主要特点:一定温度与压力作用下,树脂流动并发生固化不同的型号,其固化厚度不一致,以用来调节不同板厚存放环境:恒温、恒湿半固化片2009-4-16主要原材料介绍主要作用:多层板顶、底层形成导线的基铜材料主要特点:一定温度与压力作用下,与半固化片结合12um、18um、35um、

3、70um、105um等厚度存放环境:恒温、恒湿铜箔2009-4-17主要原材料介绍主要作用:阻焊起防焊的作用,避免焊接短路字符主要是标记、利于插件与修理主要特点:阻焊通过丝印形成一层膜附于板面,此膜受光、温度照射,发生固化字符通过丝印成标记字,在一定温度下其完全固化存放环境:恒温、恒湿阻焊、字符2009-4-18主要生产工具卷尺2,3底片放大镜测量工具板厚、线宽、间距、铜厚2009-4-19多层板加工流程2009-4-110双面板加工流程2009-4-111开料目的:将大块的覆铜板剪裁成生产板加工尺寸,方便生产加工流程

4、:选料(板厚、铜厚)量取尺寸剪裁流程原理:利用机械剪床,将板裁剪成加工尺寸大小注意事项:确定板厚、铜厚、板材的经、纬方向避免划伤板面工程注意事项:2009-4-112开料时工程注意事项(内部联络单)1:板厚小于等于0.51mm,需开料后烘板,tg值4H.(内联单)2:所有≧10层或≧3次层压需用S1000-2板料(客户指定除外)。(内联单)3:完成板厚0.8-/+0.1mm需选0.6mm1/1oz,若完成铜厚≧70um需评审。(内联单)4:芯板厚度﹤1.0mm内层需做3/10000拉伸。(内联单)5:若需做阴阳板镀,板

5、厚≧0.35mm则直接送板镀进行背对背,若板厚﹤0.35Mm需送光成像单面压膜.(内联单)6:长和宽相差≦4inch,层数≧10层数量20套,﹤10层30套,开料时需注明.(内联单)7:单面板,若有焊环要求,基铜﹥1oz需走钻孔---正片内层-----蚀刻(内联单)8:最薄的内层芯板为0.1mm1/1OZ.(制程能力)9:特殊板材应用红色工卡.如PTFE,ROGERS,TEFLEON,TANONIC,ARLON需在沉铜前用四氢呋喃浸泡,而FR系列,TP系列,CAM系列不能用四氯呋喃浸泡.(内联单):所有≧10层,入库前

6、需用TG值烘板,(内联单)2009-4-113刷板目的:去除板面的氧化层流程:放板调整压力出板流程原理:利用机械压力与高压水的冲力,刷洗,冲洗板面与孔内异物达到清洗作用.注意事项:板面的撞伤孔内毛刺的检查2009-4-114内光成像工程注意事项内层基铜≧3OZ或由1OZ板镀至2OZ需压二次干膜.需在内层注明.(内联单)内层(负片)补偿:公式,损失量(MIL)=基铜(MIL)/1.2例如:35UM基铜其损失量为35/25.4*1.2=1.2miL其损失量为线宽的损失量+补偿量(线宽需在客户要求范围内调整),(建议项)最小

7、间距:一般1OZ以下间距可最小为3.5miL,2-3oz可保证4.5mil,3oz以上可保证6mil即可.补偿不足时需评审.单边焊环4+补偿值.(制程能力)层次大于10层原则上需评审,我司能力8层板孔到线最小6mil,9-14层孔到线最小8miL,15-26层孔到线最小12miL,在此之上不用评审,小于此需评审.(制程能力)最小线宽/线距可做3.5/3.5mil,用18um基铜.(制作能力)隔离带一般按9mil制作.(制作能力)2009-4-115内光成像目的:进行内层图形的转移,将底片上的图形转移到板面的干膜上,形成

8、抗蚀层。流程:板面清洁贴膜对位曝光流程原理:在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形。注意事项:板面杂物、膜划伤、底片划伤、底片偏位台面的清洁、曝光玻璃的清洁、底片清洁2009-4-116内光成像2009-4-117内层DES目的:曝光后的

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。