eda课程设计报告--四位加法器设计

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1、中原工学院信息商务学院《EDA》课程设计题目：四位加法器设计学号：200906024245姓名：梁晓群班级：机自094指导老师：韩晓燕2011年12月28日—2011年12月30日14中原工学院信息商务学院目录摘要----------------------------------3EDA简介---------------------------3概述----------------------------------41.1目的与要求-------------------41.2实验前预习-----------------

2、--41.3设计环境----------------------5四位全加器的设计过程----------52.1半加器的设计-----------------62.2一位全加器的设计-----------92.3四位全加器的设计----------11收获与心得体会----------------1314中原工学院信息商务学院摘要本文主要介绍了关于EDA技术的基本概念及应用，EDA设计使用的软件Quartus7.2的基本操作及使用方法，以及半加器、1位全加器和四位全加器的设计及仿真过程。EDA简介EDA的概念EDA技术就是

3、以计算机为工具，设计者在EDA软件平台上，用硬件描述语言HDL完成设计文件，然后由计算机自动地完成逻辑编译、化简、分割、综合、优化、布局、布线和仿真，直至对于特定目标芯片的适配编译、逻辑映射和编程下载等工作.EDA是电子设计自动化（ElectronicDesignAutomation）的缩写，在20世纪90年代初从计算机辅助设计（CAD）、计算机辅助制造（CAM）、计算机辅助测试（CAT）和计算机辅助工程（CAE）的概念发展而来的。EDA代表了当今电子设计技术的最新发展方向，它的基本特征是：设计人员按照“自顶向下”的设计方法

4、，对整个系统进行方案设计和功能划分，系统的关键电路用一片或几片专用集成电路（ASIC）实现，然后采用硬件描述语言（HDL）完成系统行为级设计，最后通过综合器和适配器生成最终的目标器件，这样的设计方法被称为高层次的电子设计方法。现在对EDA的概念或范畴用得很宽。包括在机械、电子、通信、航空航天、化工、矿产、生物、医学、军事等各个领域，都有EDA的应用。目前EDA14中原工学院信息商务学院技术已在各大公司、企事业单位和科研教学部门广泛使用。例如在飞机制造过程中，从设计、性能测试及特性分析直到飞行模拟，都可能涉及到EDA技术。本文

5、所指的EDA技术，主要针对电子电路设计、PCB设计和IC设计。EDA设计可分为系统级、电路级和物理实现级。利用EDA工具，电子设计师可以从概念、算法、协议等开始设计电子系统，大量工作可以通过计算机完成，并可以将电子产品从电路设计、性能分析到设计出IC版图或PCB版图的整个过程在计算机上自动处理完成。现在对EDA的概念或范畴用得很广。包括在机械、电子、通信、航空航天、化工、矿产、生物、医学、军事等各个领域，都有EDA的应用[1]。目前EDA技术已在各大公司、企事业单位和科研教学部门广泛使用。例如在飞机制造过程中，从设计、性能测

6、试及特性分析直到飞行模拟，都可能涉及到EDA技术。本次毕业设计课题实现的核心技术即为EDA相关技术。一、概述1.1目的与要求本实验课程的目的，旨在通过上机实验，使学生加深理解EDA技术的基本方法，帮助和培养学生建立利用原理图和硬件描述语言进行电路设计的基本方法和利用EDA工具软件（MAX+plusⅡ或Quartus7.2）设计简单数字电子系统的能力，为以后从事有关数字电子系统方面的设计和研究开发工作打下基础。1.2实验前预习每次实验前，学生须仔细阅读本实验指导书的相关内容，明确实验目的和实验内容；明确实验原理与步骤；复习与实

7、验内容有关的理论知识；预习仪器设备的使用方法、操作规程及注意事项。14中原工学院信息商务学院1.3设计环境QuartusⅡ简介QuartusⅡ是Altera公司提供的FPGA/CPLD集成开发软件，Altera是世界上最大的可编程逻辑器件供应商之一。QuartusⅡ在21世初推出，是Altera全一代FPGA/CPLD集成开发软件MAX+plusII的更新换代产品，其界面友好，使用便捷。在QuartusⅡ上可以完成设计输入、HDL综合、布新布局(适配)、仿真和选择以及硬件测试等流程，它提供了一种与结构无关的设计环境,使设计者

8、能方便地进行设计输入、开始处理和器件编程。QuartusⅡ提供了完整的多平台设计环境，能满足各种特定设计的需求，也是单片机可编程系统(SoPC)设计的综合环境和SoPC开发的基本设计工具，并为AlteraDSP开发包进行系统模型设计提供了集成综合环境。QuartusⅡ设计完全支持VHDL、