磁控溅射法制备ito膜的研究

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1、磁控溅射法制备ITO膜的研究目录前言...............................................................................................................................................1第一章ITO薄膜概述.....................................................................................................................2§1.1ITO

2、薄膜的结构................................................................................................................2§1.2ITO薄膜的特性.................................................................................................................2§1.3ITO薄膜的基本原理.......................................

3、.................................................................31.3.1ITO膜的导电机理..........................................................................................................31.3.2ITO膜的半导体化机理..............................................................................................

4、.31.3.3影响ITO薄膜导电性能的几个因素...........................................................................4第二章ITO膜的制备方法...........................................................................................................5§2.1ITO薄膜制备方法简介...............................................................

5、.....................................5§2.2直流磁控溅射法制备ITO膜的基本原理.......................................................................62.2.1磁控溅射基本原理.......................................................................................................62.2.2气体辉光放电的物理基础................................

6、...........................................................72.2.3辉光放电与等离子体...................................................................................................8第三章实验部分....................................................................................................................

7、.....11§3.1玻璃基片与超声清洗........................................................................................................11§3.2ITO膜制备参数的选择.............................................................................