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时间:2020-03-14
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1、TFT显示面板制造工程简介目录一、液晶显示器(LCD)的基础1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义1.2液晶显示器的基础及原理二、TFT-LCD制造基本流程及设备2.1制造流程概要2.2ARRAY工艺流程及设备2.3CELL工艺流程及设备2.4Module工艺流程及设备2一、液晶显示器(LCD)的基础1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义液晶的发现1888年,奥地利植物学家F.Reinitzer在测量某些有机物熔点时发现:1889年,德国物理学家O.Lehmann发现:这类不透明的物体外观上属液体,但具有晶体特有的双折射性质,于是将其命名为“液态晶体”固态不透明浑浊状态透明液态加热冷却加热
2、冷却3一、液晶显示器(LCD)的基础液晶:一种液体状结晶性物质,介于固体(结晶)以及液体(非结晶)之间的第四状态(中间状态),具有流动性以及各向异性(光学各向异性,如双折射效应).液晶显示器:利用外加电压以及液晶材料本身光学各向异性(如双折射效应以及旋光特性),进而显示所需要的数字、文字、图形以及影像等功能的一种人机界面的信息、通讯、网络的系统。1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义4一、液晶显示器(LCD)的基础扩散・光学薄膜导光板荧光管接续电路基板驱动用LSITCPCF基板偏光板液晶盒Array基板液晶显示器的构造模式断面图1.2液晶显示器的基础及原理5一、液晶显示器(LCD)的基础
3、封框胶信号配线端子Gate配线端子TFT基板CF基板Ag电极配向膜液晶面板的构造平面图(TFT型)1.2液晶显示器的基础及原理6一、液晶显示器(LCD)的基础偏光板CF基板盒垫料转移电极(Ag)封框胶封框胶垫料取向膜TFT基板偏光板液晶BGRITOBM液晶面板的构造断面图(TN型)1.2液晶显示器的基础及原理7一、液晶显示器(LCD)的基础彩膜空间混色法实现TFT-LCD彩色化TFT基板彩膜的结构偏光板TFT背光源偏光板液晶黑色矩阵提高对比度降低Ioff1.2液晶显示器的基础及原理8二、TFT-LCD制造基本流程及设备2.CELL工程3.MODULE工程TFT基板玻璃基板1100×13
4、00成膜→光刻(反复)TFT基板贴合彩膜取向→液晶滴下→贴合→切断(15型16片)面板端子接续电路基板安装背光源面板外框组装液晶面板完成2.1制造流程概要9二、TFT-LCD制造基本流程及设备2.2ARRAY工艺流程及设备G工程Active&S/D工程C工程PI工程检查(TN-1)检查(TN-2)TN:4MaskProcessCell工程Gate工程Active工程钝化层工程ITO工程检查(SFT-2)TN:5MaskProcess检查(SFT-1)Cell工程S/D工程Repair(TN-1)Repair(TN-2)Repair(SFT-1)Repair(SFT-2)Glass购入,
5、洗净后使用Glass购入,洗净后使用10ARRAY制造流程图11TFTArray组成材料12TFT–GATE电极形成13TFT–Active(岛状半导体形成)14TFT–S/D源漏电极形成15TFT–钝化层及接触孔形成16TFT–ITO像素电极形成172.2ARRAY工艺流程及设备装料周转盒机械手传送装置UV药液喷淋刷洗高压喷射MS气刀传送装置机械手卸料洗 浄182.2ARRAY工艺流程及设备洗 浄UV药液刷子高圧MSA/KPDA排水P排水P纯水DA洗净功能洗净对象作 用U V药液刷洗高压喷射M S氧化分解溶 解机械剥离机械剥离机械剥离有机物(浸润性改善)有机物微粒子(大径)微粒子(
6、中径)微粒子(小径)UV/O3溶 解接触压水压加速度cavitation19PVD(溅射):物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition)2.2ARRAY工艺流程及设备工艺室A工艺室B搬送室工艺室C加热室进料室卸料室自动移栽装置20PVD:物理气相沉积PVD(PhysicalVaporDeposition)阴极靶材阳极腔体泵基板2.2ARRAY工艺流程及设备212.2ARRAY工艺流程及设备PECVD:电浆辅助化学气相沉积PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition222.2ARRAY工艺流程及设备PECVD:电浆辅助化学气相沉积Plasm
7、aEnhancedChemicalVaporDepositionプロセスヒートトランスファーLL/ULローダー加热腔工艺腔装载台纳入(大气到真空)/送出腔(真空到大气)机械手232.2ARRAY工艺流程及设备PECVD:电浆辅助化学气相沉积PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition除害装置(scrubber)MFCMFCMFC汽缸cabinet气体BOX气体吹出电极(阴极)ヒーター等离子体M.BOXP控制RF电源
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