ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究

ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究

ID:36344290

大小:3.12 MB

页数:84页

时间:2019-05-09

ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究_第1页
ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究_第2页
ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究_第3页
ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究_第4页
ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究_第5页
资源描述:

《ALN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、上海交通大学硕士学位论文AlN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究姓名:赵文济申请学位级别:硕士专业:材料学指导教师:李戈扬20070201上海交通大学硕士学位论文摘要界面以及由此所产生的交变应力场应该是多层膜产生超硬效应的重要原因和必要条件。通过高温退火实验研究了AlN单层膜和AlN/SiO2纳米多层膜的高温稳定性。结果表明,在900℃下退火时,AlN/SiO2纳米多层膜的生长结构未产生明显改变;多层膜在800℃时会开始氧化,氧化速率随退火温度的提高而增大。多层膜的硬度亦随氧化层的厚度增加而逐渐降低,但未受到氧

2、化的部分仍然保持较高硬度。对照AlN单层膜退火后的微结构与硬度变化可以认为,SiO2层的加入对多层膜高温抗氧化性的增加所起到的作用不大,而该多层膜抗的氧化性主要取决于组成多层膜主体调制层材料本身(即AlN)的抗氧化性。关键词:AlN/SiO2纳米多层膜,AlN/Si3N4纳米多层膜,六方晶体模板相,非晶晶化,超硬效应,交变应力场,高温稳定性,高温抗氧化性–ii–上海交通大学硕士学位论文AbstractSTUDYONGROWTHSTRUCTURE,SUPERHARDNESSMECHANISMANDHIGHTEMPERATURE

3、STABILITYOFALN-BASEDNANO-MULTILAYERFILMSABSTRACTTheapplicationofceramicthinhardfilms,suchasTiN,oncuttingtoolsremarkablypromotedthedevelopmentofmanufacturingindustry.Withtheadvancementofhigh-speedanddrycuttingtechnology,itneedsmuchhighrequirementsfortheprotectioncoa

4、tingsoncuttingtools.Asthekindofmaterialsthatarereinforcedbymicrostructuredesign,nano-multilayerscannotonlyreachhighhardnessbythesuperhardnesseffect,butalsoobtainotherexcellentpropertiesbyproperlychoosingthecombinationofmodulationmaterials.Asaresult,nano-multilayers

5、arereceivingincreasingattentionsandresearchesasanewgenerationofprotectioncoating.FormerresearchesonsuperhardnesseffectsandtemplateeffectsinmultilayersaremainlyonNaClstructurematerials.However,thisthesisadopth.c.p.structuredwurtziteAlN(h-AlN)asthecrystallayerinthemu

6、ltilayers.ThecrystallizationbehaviorofSiO2andSi3N4undertheeffectsofh-AlNisstudied.Thesuperhardnesseffectsaswellasthemechanismofhardnessenhancementarealsoinvestigated.Inthisthesis,thehightemperatureoxidationresistanceofAlN/SiO2areexperimentalstudied.AndtheeffectsofS

7、iO2additiontothehightemperatureabilityofthemultilayersarealsodiscussed.Theresultsareshowedasfollows.InAlN/SiO2andAlN/Si3N4nano-multilayers,duetotheh.c.p.AlNtemplatelayers,normallyamorphousSiO2andSi3N4crystallizeandformh.c.p.pseudo-crystalstructurewhentheirthickness

8、isbelow0.6nm.Thecrystallizedmaterialsgrewepitaxially–iii–上海交通大学硕士学位论文AbstractwithAlNandcoherentinterfacesareformedbetweenthetwomodulationmaterial

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。